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    2012-4-16 13:47
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    挠性印制电路板试验方法之工业标准 日本工业标准 JIS C 5016—1994 1.适用范围 本标准是规定了电子设备用的单面及双面的挠性印制线路板(以下称挠性印制电路板)的试验方法,与制造方法无关。 备注 1).本标准不包括挠性多层印制电路板和刚挠 印制电路板 。 2).本标准中引用标准,见附表1所示。 3).本标准所对应国际标准如下: IEC 249—1(1982)印制电路基材 第1部分:试验方法 IEC 326—2(1990)印制电路板 第2部分:试验方法 2.术语定义 本标准用的主要术语的定义,是在JIS C 0010及JIS C 5603中规定。   3.试验状态 3.1 标准状态 在专项标准没有规定时,试验是按JIS C 0010的5.3条 标准状态下进行(温度15~35℃,相对湿度25~75%,气压86~106Kpa)。但是,对标准状态下判别产生异疑时,或者有特别要求时,按3.2条。 另外,试验在标准状态进行有困难时,对判别不会产生疑问的,可以在标准状态以外的状态下进行。 3.2 判别状态 判别状态是按JIS C 0010的5.2条 的判别状态(温度20±2℃,相对湿度60~70%,气压86~106Kpa)。 4.试样 4.1 试样的制作 试样制作方法为(1)和(2)。 而要注意试样表面不可有油类、汗和其它污染。 (1)取样方法 试样是从实际使用的挠性印制电路板中抽取。在专项标准指定形状和尺寸时,以不影响性能的方法切割试样。 而有设计的试验样板时,以此作为试样。 (2)试验图形的方法 以4.2的试验图形为试样,试验对象是以与挠性印制电路板相同材料和制造方法制作的。 4.2 试验图形的形状和尺寸 试验图形的形状和尺寸是附图1~8。   5.前处理 试样前处理是在标准状态下放置24±4小时。   6.外观 显微切片及其尺寸检验 6.1 外观 外观检验是用目视或3~10倍放大镜,对照专项标准确认挠性印制电路板的品质,对外观、加工质量、图形等检查。 另外,用显微切片看试样加工质量状态时,用约250倍的显微镜,通常用环氧化树脂、聚脂树脂等填埋入试样,固化,切割试样的观察部分,研磨割切面,检查研磨面。   6.2 显微切片 显微切片是在专项标准中规定,检查镀通孔、导体和挠性印制电路板的内部状态、外观、尺寸等。 (1)装置 装置是研磨盘以及倍率从100倍到1000倍的显微镜。测定镀层厚度0.001mm以上精度的显微镜或者同等以上精度的物品。 (2)材料 材料是脱模料,填埋用树脂,研磨布(#180、#400、#1000等)、研磨纸(#180、#400、#1000等),以及研磨料(铝、氧化铬等). (3)试样制作 切割适当大小的试样,不可损伤观察部位,埋入填埋树脂。然后,用研磨布纸,从粒度粗到细依次进行精研磨,再在旋转的研磨盘的毛毡面上用流动研磨料进行细研磨。这研磨面必须与层间成85~95°范围。 在测定镀通孔镀层厚度时,显微切片显现的孔径尺寸必须是在事前测定孔直径的90%以上。另外,在必须有明显电镀层分界线时,试样研磨后可进行蚀刻。 (4)试验 试验是按专项标准规定的项目,规定的倍率检查。 6.3 尺寸检验 6.3.1 外形 (1)装置 装置是JIS B 7153中规定的工具显微镜,或者是具有同等以上精度的器具。 (2)测定 测量长度和宽度,读数单位0.05mm。 6.3.2 厚度 (1)装置 装置是JIS B 7503中规定的目视量值0.001mm的千分卡,或者是具有同等以上精度的器具。 (2)测定 测量板厚或整个板厚,读数单位0.001mm。 6.3.3 孔径 (1)装置 装置是精度0.01mm以上的读数放大镜,或者是具有同以上精度的器具。 (2)测定 测量规定孔的直径。 6.3.4 孔位置 (1)装置 装置是精度0.01mm以上的座标测定仪或者工具显微镜,或者是同等到以上精度的器具。 (2)测定 (a)当测定孔的位置与座标格对应时,以适当方式固定挠性印制电路板,从挠性印制电路板上在座标格上的基准孔或基准点测量到规定孔的距离,这是按X轴与Y轴方向测定。 (b)当测定任意孔的位置时,以适当方式固定挠性印制电路板,测量需测定的孔与孔之间距离。 6.3.5 导体宽度和最小导体间距 (1)装置 装置是精度0.01mm以上的读数放大镜,或者是具有同等以上精度的器具。 (2)测定 以适当方式固定挠性印制电路板,测量导体宽度与最小导体间距的投影尺寸。 6.3.6 导体缺损和导体残余 (1)装置 装置是与6.3.3(1)相同 (2)测定 局部导体上的导体缺损尺寸,以及绝缘部分上导体残余尺寸,是沿着导体的长度方向与垂直方向测量。 6.3.7 连接盘尺寸 (1)装置 装置是与6.3.4(1)相同。 (2)测定 测量投影尺寸. 6.3.8 连接盘环宽 (1)装置 装置是与6.3.4(1)相同。 (2)测定 测量图1所示的内壁与连接盘边缘之间投影尺寸(w) (1)非电镀孔 (2)电镀孔 6.3.9 覆盖层 (1)装置 装置是用6.1规定的放大镜 (2)试样 试样板是挠性印制电路板上采用覆盖层部分。 (3)试验 用放大镜全面检查样板。按专项标准规定检验连接盘等导体露出部分与覆盖层的位置偏差,以及覆盖层与导体或者基材膜之间有无残存空隙和异物夹杂。   7.电气性能试验 7.1 导体的电阻 7.1.1 装置 装置是图2所示的电压降下法(四端子法)仪器,或者是同等以上的器具。电流为直流电流。 7.1.2 试样 试验样板是尽可能长且细的导线,在专项标准规定。 7.1.3 前处理 按5.条前处理 7.1.4 试验 测试时要考虑避免受探针接触方法的影响和受测定电流发热的影响,按图3的方法测量电阻值,精度在±5%。 A:JIS C 1102中规定的电流表 V:试验电路的电阻比电压表的内部电阻高得多。   7.2 镀通孔的电阻 7.2.1 装置 装置与7.1.1相同 7.2.2 试样 试样板是挠性印制电路板、测试样板的规定部分,或者附图5的测试图形。 7.2.3 前处理 按5.条前处理 7.2.4 试验 测试时要考虑避免受探针接触方法的影响和受测定电流发热的影响,按图4的方法测量电阻值,精度在±5%。 7.3 导体的耐电流性 7.3.1 装置 装置是通电能产生 7.3.4要求的试验电流的直流或交流电源,电流表以及温度测定装置。 7.3.2 试样 试样是挠性印制电路板、测试图形等的规定导体部分 7.3.3 前处理 按5.条前处理。 7.3.4 试验 试验是按专项标准规定的交流电流或者直流电流,以及规定的通电时间,在规定的导体上通电,测量导体的上升温度。 7.4 镀通孔的耐电流性 7.4.1 装置 装置是通电能产生 7.4.4要求的试验电流的直流或交流电源,以及电流表。 7.4.2 试祥 试样是挠性印制电路板、测试样板或者附图5的测试图形上的镀通孔。 7.4.3 前处理 按5.条前处理。 7.4.4 试验 试验时在试样的镀通孔上,按专项标准规定的电流连续通电30秒,检查其间有否异常。而孔径与对应的试验电流一例见表1所示。 表 1 孔径与对应的试验电流例 孔径 mm 0.6 0.8 1.0 1.3 1.6 2.0 试验电流 A 8 9 11 14 16 20 7.5 表面层耐电压 7.5.1 装置 装置是JIS C 2110的6.2(电路断路器)规定的物品,或者是同等以上的器具。 7.5.2 试样 试样是挠性印制电路板或者附图1的测试图形。 挠性双面印制电路板是有上表面和下表面形成的2种类型导体图形。 另外,在此试验中若试样发生机械损伤、飞弧(表面放电)、火花(空中放电)或者击穿(绝缘破坏),不可再用作其它试验。 7.5.3 前处理 按5.条前处理。 7.5.4 试验 试验是用直流电压,或者是用50Hz或60Hz频率的正弦波交流电压。按专项标准规定的电压值施加于印制电路板的指定部位。电压施加是在5秒钟间让电压渐渐上升到规定值,并保持1分钟,检查有无机械损伤、飞弧、火花放电、击穿等异常。 7.6 表面层的绝缘电阻 7.6.1 装置 装置是JIS C 1303中规定的高绝缘电阻计或者标准电阻器、万能分流器,以及校正精度±10%的检流计。 7.6.2 试样 试样是用挠性印制电路板、测试样板或者附图1的测试图形,可以有覆盖层或无覆盖层。而挠性双面印制电路板是有上表面和下表面形成的2种类型导体图形。 7.6.3 前处理 按5.条进行前处理。 7.6.4 试验 试样上施加直流电压500±5V并保持1分钟后,测定在施加电压状态下绝缘电阻。 7.7 电路完整性 7.7.1 电路的绝缘试验 (1)装置 装置是由施加试验电压的电压源、电阻测定器,以及与导体图形指定部位电气连接的探针等构成。 电压源是具有监视产生的电流,避免发热,限制试验电路的电流值在电流容量范围内之功能的装置。 (2)试样 试样是挠性印制电路板的规定部位。 (3)前处理 按5.条前处理。 (4)试验 按相关连的规范(照相底图、试验数据、专项标准等),确认挠性印制电路板导体图形指定位置间应该不连接的区域是没有电气连接。 试验是在导体图形指定部位间施加专项标准规定的试验电压,根据导体间的电流求出电阻值,在最小电阻值以上就认为保持了电路的绝缘性。 试验电压、电压施加时间以及允许最小电阻值是在专项标准中规定。 7.7.2 电路的导通试验 (1)装置 装置是由施加试验电流的电流源、电阻测定器,以及与导体图形指定部位电气连接的探针等构成。 (2)试样 试样是挠性印制电路板的规定部位。 (3)前处理 按5.条前处理。 (4)试验 按相关连的规范(照相底图、试验数据、专项标准等),确认挠性印制电路板导体图形指定位置间应该是电气导通的。 试验是在导体图形指定部份间施加专项标准规定的试验电流,根据两点间电位差求出电阻值,在最大电阻值以下时就认为保持了电路的导通性。 试验电流、电流施加时间以及允许最大电阻值是在专项标准中规定。
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    2010-1-16 21:32
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    2007/4/29 2:31:22 电子计算技术出现的历史差不多60年,采用集成电路的个人计算机出现才20多年,因特网的普遍使用10来年。 观察这个短暂的历史中,有许多高人作出过各种不同的猜测和分析,大多数人还是错误了,由苹果首发的个人电脑,被IBM的PC发扬光大,直接改变了世界!我们回头总结,为什么PC能够成功?过程中那许许多多的产品去哪里了(PC的最后的竞争对手苹果电脑,在支持双系统的掩护下,已经向PC屈服),我们未来的机会在哪里? PC的成功,归根结底,是源自去它的开放性、市场化和标准化!这是顺应时代和民心的技术选择,是消费者的推进所得。 作为行业的后进入者,IBM当年推出PC,采用的是大家都熟悉的INTEL的CPU,本着开放的精神,提出和公开了一系列的工业标准,包括周边设备接口、总线标准、板卡标准等等,并且维持这些标准的代代升级发展,由市场来选择方向。 正因为市场需要统一,标准,也就培育了提供基础软件平台的微软,而即使是同样支持苹果的微软,也没有能够将技术同样先进的但是在技术标准上持相对保守状态的苹果推动到多数消费者心目中。 在这个信息发达的时代,广泛适用的产品往往被二八法则约束,老大就是所有,流通的不是某个指标最好的,先进入、开放的一旦占据地盘,后进的难度就高出许多,这样,社会的总体消费成本才是最低。推进速度才是最快! PC占领了有利地形,INTEL X86架构就成为工业标准,几十年来,即使出现许多不同架构实现方法的微处理器、性能和指标更加强大,却从来没有真正有任何能够动摇INTEL的地位,一代一代,这些新进入者被迫走向专用领域或者消失。 新的英雄要出现,需要创新,需要努力,更加需要时机,时势造英雄啊! 中国的通用CPU如果要想在目前的桌面系统中去分一勺羹,可以说可行性都没有,我们能够做的,只能是等待时机,积蓄力量,没有哪种生命是永恒的,强者的身后就是阴影,我们要找寻时机。 技术的发展,降低了技术的门槛,强者的生命过程,是自愿不自愿在制造自己的敌人和后继者。 今天,半导体技术的产品制造的工具变得普及和相对廉价,网络化IT世界是没有力量能够改变的现实。在网络化时代,无论硬件、软件,都会出现新的游戏规则和机会。 十几年前微软总裁比尔盖兹曾经说道,他的敌人就会在那些几个人十几个人的公司中脱颖而出,今天,全球品牌排名第一的GOOGLE就证明了这一点,强势就是劣势,没有永远,英雄代出,21世纪是网络世纪,忘记了网络的一切都是会消失的,强者要么放弃自己坚持的,要么被人剥夺自己坚持的。 21世纪的软件不会是微软今天的那种软件,21世纪的硬件更加不会是INTEL现在那种硬件,中国的半导体产业机会会到来,需要的是有智慧者并且勇敢执着追求的人在某个时间点站起来。 基于网络的计算,基于网络的储存,给予网络的一切,在新的机会面前,大家条件一致,只要我们去参战,在众多的前进者中间有许多的中国公司,我们成功的机遇就会很大! 中国的人均国民生产值和收入都低,我们的竞争力就放在这儿了,或者我们不是最有能力的开发者,但是我们会是最好的制造者,只要我们是最好的制造者,我们就有很大可能成为最好的开发者! 来吧来吧,我们尽量活跃起来,信心起来,我们不要吹牛,不要空喊口号,实实在在去努力,倒下999个,总会有一个最后站立在那里,那个站立者是中国人的概率大于25%的。中国的通用CPU不能赢在今天,她会赢在明天!赢在网络世代!
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