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氩离子研磨抛光切片制样
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氩离子切割制样是利用氩离子束(〜1mm)来切割样品,以获得相比FIB制样(通常十几微米)面积更大的电子显微分析区域。其制样原理是用一个坚固的挡板遮挡住样品的非目标区域,有效的遮蔽了下半部分的离子束,创造出一个侧切割平面,去除样品表面的一层薄膜。氩离子抛光技术又称CP截面抛光技术,是对样品表面进行抛光,去除损伤层,从而得到高质量样品,用于在SEM,光镜或者扫描探针显微镜上进行成像
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