微流控芯片低温键合技术
低温键合是相对高温键合而言的,通常指在100℃以下甚至室温下进行的芯片键合。因为高温键合存在种种不利因素,促使许多研究人员开始进行玻璃芯片低温或室温键合技术的研究。
1997年,Nakanishi等报道了以HF溶液为黏合剂的压力辅助低温键合技术,用1%HF稀溶液滴入洁净的两玻璃片或石英片之间的缝隙中,靠毛细作用使HF溶液在界面上均匀分布,在室温下施加4kPa压力,2h即可键合成功,或温度升高至60℃,lh即可完成键合。键合完毕后在去离子水中超声清洁并干燥。该技术所得的芯片具有足够的键合强度(可承受.02MPa的压力)和密封性能,且光学性能良好。
Ramsey等报道在两玻璃片之间,通过滴入硅酸钠稀溶液形成中间层,在室温下放置过夜,或90℃放置1h也能进行键合。
Sayah等又报道了两种低温键合的方法:
在两片仔细清洁的玻璃片之间使用1μm后的环氧胶,在1MPa的压力和90℃条件下固化;
在100~200℃加高压15h使之直接键合,压力最高可用50MP。
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