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FIB(聚焦离子束，Focused Ion beam)是将液态金属(Ga)离子源产生的离子束经过离子*加速,聚焦后照射于样品表面产生二次电子信号取得电子像.此功能与SEM（扫描电子显微镜）相似,或用强电流离子束对表面原子进行剥离,以完成微、纳米级表面形貌加工.通常是以物理溅射的方式搭配化学气体反应，有选择性的剥除金属,氧化硅层或沉积金属层。高性能聚焦离子束系统(简称FIB)具有许多独特且重要的功能,已广泛的应用于半导体工业上 ,其特性在于能将以往在半导体设计、制造、检测及故障分析上许多困难、耗时或根本无法达成之问题一一解决。例如精密定点切面、晶粒大小分布检测、微线路分析及修理等

    我们是做芯片失效分析技术服务的，不过主要是 FIB 技术方面的应用，尤其专业于 FIB 线路修改方面的，目前我们的技术能力可以做到 28nm 工艺 的芯片，同时   在 decap 方面， 铜线封装 ，我们早已解决技术难点，成功率绝对过硬。现公司总部在北京，另 在上海、深圳、珠海、无锡、西安、成都也成立了分公司。     我们的服务将为 IC 芯片设计工程师，IC 制造工程师缩短设计，制造时间，增加产品成品率。 我们将为研究人员提供，截面分析，二次电子像，以及透射电镜样品制备。我们同时还为聚焦离子束系统的应用客户提供维修，系统安装，技术升级换代，系统耗材， 以及应用开发和培训。 http://www.ionbeamtech.com

  纳瑞科技（北京）有限公司(Ion Beam)成立于2006年，是由在聚焦离子束（扫描离子显微镜）应用技术领域有多年经验的技术骨干创立而成。我们为集成电路设计和制造工业，光电子工业，纳米材料研究领域提供一流的分析技术服务。我们特别专注于离子束应用技术在 IC芯片修改以及失效分析领域的技术应用及拓展。利用我们的技术背景与团队，公司致力于为IC 设计,制造客户提供世界水平的分析技术服务。 http://www.ionbeamtech.com