标签: 电击穿

一直想给大家讲讲 ESD 的理论，很经典。但是由于理论性太强，如果前面那些器件理论以及理论不懂的话，这个大家也不要浪费时间看了。任何理论都是一环套一环的，如果你不会画鸡蛋，注定了你就不会画大卫。 静电放电 (ESD: Electrostatic Discharge) ，应该是造成所有电子元器件或集成电路系统造成过度电应力 (EOS: Electrical Over Stress) 破坏的主要元凶。因为静电通常瞬间电压非常高 几千伏 ) ，所以这种损伤是毁灭性和永久性的，会造成电路直接烧毁。所以预防静电损伤是所有 IC 设计和制造的头号难题。 静电，通常都是人为产生的，如生产、组装、测试、存放、搬运等过程中都有可能使得静电累积在人体、仪器或设备中，甚至元器件本身也会累积静电，当人们在不知情的情况下使这些带电的物体接触就会形成放电路径，瞬间使得电子元件或系统遭到静电放电的损坏 ( 这就是为什么以前修电脑都必须要配戴静电环托在工作桌上，防止人体的静电损伤芯片 ) ，如同云层中储存的电荷瞬间击穿云层产生剧烈的闪电，会把大地劈开一样，而且通常都是在雨天来临之际，因为空气湿度大易形成导电通到。 那么，如何防止静电放电损伤呢？ 首先当然改变坏境从源头减少静电 ( 比如减少摩擦、少穿羊毛类毛衣、控制空气温湿度等 ) ，当然这不是我们今天讨论的重点。我们今天要讨论的时候如何在电路里面涉及保护电路，当外界有静电的时候我们的电子元器件或系统能够自我保护避免被静电损坏 ( 其实就是安装一个避雷 针 ) 。这也是很多 IC 设计和制造业者的头号难题，很多公司有专门设计 ESD 的团队，今天我就和大家从最基本的理论讲起逐步讲解 ESD 保护的原理及注意点， 你会发现前面讲的 PN 结 / 二极管、三极管、 MOS 管、全都用上了…… 以前的专题讲解 PN 结二极管理论的时候，就讲过二极管有一个特性：正向导通反向截止 ( 不记得就去翻前面的课程 ) ，而且反偏电压继续增加会发生雪崩击穿 (Avalanche Breakdown) 而导通，我们称之为钳位二极管 (Clamp) 。这正是我们设计静电保护所需要的理论基础，我们就是利用这个反向截止特性让这个旁路在正常工作时处于断开状态，而外界有静电的时候这个旁路二极管发生雪崩击穿而形成旁路通路保护了内部电路或者栅极 ( 是不是类似家里水槽有个溢水口，防止水龙头忘关了导致整个卫生间水灾 ) 。 那么问题来了，这个击穿了这个保护电路是不是就彻底死了？难道是一次性的？ 答案当然不是。 PN 结的击穿分两种，分别是电击穿和热击穿，电击穿指的是雪崩击穿 ( 低浓度 ) 和齐纳击穿 ( 高浓度 ) ，而这个电击穿主要是载流子碰撞电离产生新的电子 - 空穴对 (electron-hole) ，所以它是可恢复的。但是热击穿是不可恢复的，因为热量聚集导致硅 (Si) 被熔融烧毁了。所以我们需要控制在导通的瞬间控制电流，一般会在保护二极管再串联一个高电阻，另外，大家是不 是可以举一反三理解为什么 ESD 的区域是不能 form Silicide 的？还有给大家一个理论， ESD 通常都是在芯片输入端的 Pad 旁边，不能在芯片里面，因为我们总是希望外界的静电需要第一时间泄放掉吧， 放在里面会有延迟的 ( 关注我前面解剖的那个芯片 PAD 旁边都有二极管。甚至有放两级 ESD 的，达到双重保护的目的。 在讲 ESD 的原理和 Process 之前，我们先讲下 ESD 的标准以及测试方法，根据静电的产生方式以及对电路的损伤模式不同通常分为四种测试方式：人体放电模式 (HBM: Human-Body Model) 、机器放电模式 (Machine Model) 、元件充电模式 (CDM: Charge-Device Model) 、电场感应模式 (FIM: Field-Induced Model) ，但是业界通常使用前两种模式来测试 (HBM, MM) 。 人体放电模式 (HBM ） 当然就是人体摩擦产生了电荷突然碰到芯片释放的电荷导致芯片烧毁击穿，秋天和别人触碰经常触电就是这个原因。业界对 HBM 的 ESD 标准也有迹可循 (MIL- STD-883C method 3015.7 ，等效人体电容为 100pF ，等效人体电阻为 1.5Kohm) ，或者国际电子工业标准 (EIA/JESD22-A114-A) 也有规定，看你要 follow 哪一份了。如果是 MIL-STD-883C method 3015.7 ，它规定小于 <2kV 的则为 Class-1 ，在 2kV~4kV 的为 class-2 ， 4kV~16kV 的为 class-3 。 机器放电模式 (MM) 当然就是机器 ( 如 robot) 移动产生的静电触碰芯片时由 pin 脚释放，次标准为 EIAJ-IC-121 method 20( 或者标准 EIA/JESD22-A115-A) ，等效机器电阻为 0 ( 因为金属 ) ，电容依旧为 100pF 。由于机器是金属且电阻为 0 ，所以放电时间很短，几乎是 ms 或者 us 之间。但是更重要的问题是，由于等效电阻为 0 ，所以电流很大，所以即使是 200V 的 MM 放电也比 2kV 的 HBM 放电的危害大。而且机器本身由于有很多导线互相会产生耦合作用，所以电流会随时间变化而干扰 变化。 ESD 的测试方法类似 FAB 里面的 GOI 测试，指定 pin 之后先给他一个 ESD 电压，持续一段时间后，然后再回来测试电性看看是否损坏，没问题再去加一个 step 的 ESD 电压再持续一段时间，再测电性，如此反复直至击穿，此时的击穿电压为 ESD 击穿的临界电压 (ESD failure threshold Voltage) 。通常我们都是给电路打三次电压 (3 zaps) ，为了降低测试周期，通常起始电压用标准电压的 70% ESD threshold ，每个 step 可以根据需要自己调整 50V 或者 100V 。 (1). Stress number = 3 Zaps. (5 Zaps, the worst case) (2). Stress step Δ VESD = 50V(100V) for VZAP <=1000V Δ 1000V (3). Starting VZAP = 70% of averaged ESD failure threshold (VESD) 另外，因为每个 chip 的 pin 脚很多，你是一个个 pin 测试还是组合 pin 测试，所以会分为几种组合： I/O-pin 测试 (Input and Output pins) 、 pin-to-pin 测试、 Vdd-Vss 测试 ( 输入端到输出端 ) 、 Analog-pin 。 1. I/O pins 就是分别对 input-pin 和 output-pin 做 ESD 测试，而且电荷有正负之分，所以有四种组合： input+ 正电荷、 input+ 负电荷、 output+ 正电荷、 output+ 负电荷。测试 input 时候，则 output 和其他 pin 全部浮接 (floating) ，反之亦然。 2.pin-to-pin 测试 静电放电发生在 pin-to-pin 之间形成回路，但是如果要每每两个脚测试组合太多，因为任何的 I/O 给电压之后如果要对整个电路产生影响一定是先经过 VDD/Vss 才能对整个电路供电，所以改良版则用某一 I/O-pin 加正或负的 ESD 电压，其他所有 I/O 一起接地，但是输入和输出同时浮接 (Floating) 。 3.Vdd-Vss 之间静电放电 静电放电发生在 pin-to-pin 之间形成回路，但是如果要每每两个脚测试组合太多，因为任何的 I/O 给电压之后如果要对整个电路产生影响一定是先经过 VDD/Vss 才能对整个电路供电，所以改良版则用某一 I/O-pin 加正或负的 ESD 电压，其他所有 I/O 一起接地，但是输入和输出同时浮接 (Floating) 。 4.Analog-pin 放电测试 因为模拟电路很多差分比对 (Differential Pair) 或者运算放大器 (OP AMP) 都是有两个输入端的，防止一个损坏导致差分比对或运算失效，所以需要单独做 ESD 测试，当然就是只针对这两个 pin ，其他 pin 全部浮接 (floating) 。 好了， ESD 的原理和测试部分就讲到这里了，下面接着讲 Process 和设计上的 factor 随着摩尔定律的进一步缩小，器件尺寸越来越小，结深越来越浅， GOX 越来越薄，所以静电击穿越来越容易，而且在 Advance 制程里面， Silicide 引入也会让静电击穿变得更加尖锐，所以几乎所有的芯片设计都要克服静电击穿问题。 静电放电保护可以从 FAB 端的 Process 解决，也可以从 IC 设计端的 Layout 来设计，所以你会看到 Prcess 有一个 ESD 的 option layer ，或者 Design rule 里面有 ESD 的设计规则可供客户选择等等。当然有些客户也会自己根据 SPICE model 的电性通过 layout 来设计 ESD 。 1 、制程上的 ESD 要么改变 PN 结，要么改变 PN 结的负载电阻，而改变 PN 结只能靠 ESD_IMP 了，而改变与 PN 结的负载电阻，就是用 non-silicide 或者串联电阻的方法了。 1 ） Source/Drain 的 ESD implant 因为我们的 LDD 结构在 gate poly 两边很容易形成两个浅结，而这个浅结的尖角电场比较集中，而且因为是浅结，所以它与 Gate 比较近，所以受 Gate 的末端电场影响比较大，所以这样的 LDD 尖角在耐 ESD 放电的能力是比较差的 (<1kV) ，所以如果这样的 Device 用在 I/O 端口，很容造成 ESD 损伤。所以根据这个理论，我们需要一个单独的器件没有 LDD ，但是需要另外一道 ESD implant ，打一个比较深的 N+_S/D ，这样就可以让那个尖角变圆而且离表面很远，所以可以明显提高 ESD 击穿能力 4kV) 。但是这样的 话这个额外的 MOS 的 Gate 就必须很长防止穿通 (punchthrough) ，而且因为器件不一样了，所以需要单独提取器件的 SPICE Model 。 2 ） 接触孔 (contact) 的 ESD implant 在 LDD 器件的 N+ 漏极的孔下面打一个 P+ 的硼，而且深度要超过 N+ 漏极 (drain) 的深度，这样就可以让原来 Drain 的击穿电压降低 6V) ，所以可以在 LDD 尖角发生击穿之前先从 Drain 击穿导走从而保护 Drain 和 Gate 的击穿。所以这样的设计能够保持器件尺寸不变，且 MOS 结构没有改变，故不需要重新提取 SPICE model 。当然这种智能用于 non-silicide 制程，否则 contact 你也打不进去 implant 。 3 ） SAB (SAlicide Block) 一般我们为了降低 MOS 的互连电容，我们会使用 silicide/SAlicide 制程，但是这样器件如果工作在输出端，我们的器件负载电阻变低，外界 ESD 电压将会全部加载在 LDD 和 Gate 结构之间很容易击穿损伤，所以在输出级的 MOS 的 Silicide/Salicide 我们通常会用 SAB(SAlicide Block) 光罩挡住 RPO ，不要形成 silicide ，增加一个 photo layer 成本增加，但是 ESD 电压可以从 1kV 提高到 4kV 。 4 ）串联电阻法 这种方法不用增加光罩，应该是最省钱的了，原理有点类似第三种 (SAB) 增加电阻法，我就故意给他串联一个电阻 ( 比如 Rs_NW ，或者 HiR ，等 ) ，这样也达到了 SAB 的方法。 2 、设计上的 ESD 这就完全靠设计者的功夫了，有些公司在设计规则就已经提供给客 solution 了，客户只要照着画就行了，有些没有的则只能靠客户自己的 designer 了，很多设计规则都是写着这个只是 guideline/reference ，不是 guarantee 的。一般都是把 Gate/Source/Bulk 短接在一起，把 Drain 结在 I/O 端承受 ESD 的浪涌 (surge) 电压， NMOS 称之为 GGNMOS (Gate-Grounded NMOS)PMOS 称之为 GDPMOS (Gate-to-Drain PMOS) 。以 NMOS 为例，原理都是 Gate 关闭状态， Source/Bulk 的 PN 结本来是短接 0 偏的，当 I/O 端有大电压时，则 Drain/Bulk PN 结雪崩击穿，瞬间 bulk 有大电流与衬底电阻形成压差导致 Bulk/Source 的 PN 正偏，所以这个 MOS 的寄生横向 NPN 管进入放大区 ( 发射结正偏 , 集电结反偏 ) ，所以呈现特性，起到保护作用。 PMOS 同理推导。 这个原理看起来简单，但是设计的精髓 (know-how) 是什么？怎么触发 BJT ？怎么维持？怎么撑到 2KV or 4KV ？ 如何触发？必须有足够大的衬底电流，所以后来发展到了现在普遍采用的多指交叉并联结构 (multi-finger) 。但是这种结构主要技术问题是基区宽度增加，放大系数减小，所以不容易开启。而且随着 finger 数量增多，会导致每个 finger 之间的均匀开启变得很困难，这也是 ESD 设计的瓶颈所在。 如果要改变这种问题，大概有两种做法 ( 因为 triger 的是电压，改善电压要么是电阻要么是电流 ) ： 1 、利用 SAB(SAlicide-Block) 在 I/O 的 Drain 上形成一个高阻的 non-Silicide 区域，使得漏极方块电阻增大，而使得 ESD 电流分布更均匀，从而提高泄放能力； 2 、增加一道 P-ESD (Inner-Pickup imp ，类似上面的接触孔 P+ ESD imp) ，在 N+Drain 下面打一个 P+ ，降低 Drain 的雪崩击穿电压，更早有比较多的雪崩击穿电流 ( 详见文献论文 : Inner Pickup on ESD of multi-finger NMOS.pdf) 。 对于的 ESD 有两个小小的常识要跟大家分享一下： 1)NMOS 我们通常都能看到比较好的特性，但是实际上 PMOS 很难有特性，而且 PMOS 耐 ESD 的特性普遍比 NMOS 好，这个道理同 HCI 效应，主要是因为 NMOS 击穿时候产生的是电子，迁移率很大，所以 Isub 很大容易使得 Bulk/Source 正向导通，但是 PMOS 就难咯。 2) Trigger 电压 /Hold 电压 : Trigger 电压当然就是之前将的的第一个拐点 (Knee-point) ，寄生 BJT 的击穿电压，而且要介于 BVCEO 与 BVCBO 之间。而 Hold 电压就是要维持持续 ON ，但是又不能进入栅锁 (Latch-up) 状态，否则就进入二次击穿 ( 热击穿 ) 而损坏了。还有个概念就是二次击穿电流，就是进入 Latch-up 之后 I^2*R 热量骤增导致硅融化了，而这个就是要限流，可以通过控制 W/L ，或者增加一个限流高阻， 最简单最常用的方法是拉大 Drain 的距离 / 拉大 SAB 的距离 (ESD rule 的普遍做法 ) 。 3 、栅极耦合 (Gate-Couple) ESD 技术 我们刚刚讲过， Multi-finger 的 ESD 设计的瓶颈是开启的均匀性，假设有 10 只 finger ，而在 ESD 放电发生时，这 10 支 finger 并不一定会同时导通 ( 一般是因 Breakdown 而导通 ) ，常见到只有 2-3 支 finger 会先导通，这是因布局上无法使每 finger 的相对位置及拉线方向完全相同所致，这 2~3 支 finger 一导通， ESD 电流便集中流向这 2~3 支的 finger ，而其它的 finger 仍是保持关闭的，所以其 ESD 防护能力等效于只有 2~3 支 finger 的防护能力，而非 10 支 finger 的防护能力。这也就是为何组件尺寸已经做得很大，但 ESD 防护能力并未如预期般地上升的主要原因，增打面积未能预期带来 ESD 增强，怎么办？其实很简单，就是要降低 Vt1(Trigger 电压 ) ，我们通过栅极增加电压的方式，让衬底先开启代替击穿而提前导通产生衬底电流，这时候就能够让其他 finger 也一起开启进入导通状态，让每个 finger 都来承受 ESD 电流，真正发挥大面积的 ESD 作用。 finger 也一起开启进入导通状态，让每个 finger 都来承受 ESD 电流，真正发挥大面积的 ESD 作用。 但是这种 GCNMOS 的 ESD 设计有个缺点是沟道开启了产生了电流容易造成栅氧击穿，所以他不见的是一种很好的 ESD 设计方案，而且有源区越小则栅压的影响越大，而有源区越大则越难开启，所以很难把握。 4. 还有一种复杂的 ESD 保护电路 : 可控硅晶闸管 (SCR: Silicon Controlled Rectifier ） 它就是我们之前讲过的 CMOS 寄生的 PNPN 结构触发产生并且 Latch-up ，通过 ON/OFF 实现对电路的保护，大家可以回顾一下，只要把上一篇里面那些抑制 LATCH-up 的 factor 想法让其发生就可以了，不过只能适用于 Layout ，不能适用于 Process ，否则 Latch-up 又要 fail 了。 最后， ESD 的设计学问太深了，我这里只是抛砖引玉给大家科普一下了，基本上 ESD 的方案有如下几种 : 电阻分压、二极管、 MOS 、寄生 BJT 、 SCR(PNPN structure) 等几种方法。而且 ESD 不仅和 Design 相关，更和 FAB 的 process 相关，而且学问太深了，这里我也不是很了解，无法给再大家深入了。当然术业专攻学无止境，工作中只有不断学习才会创收更高效益。 关注公众号“优特美尔商城”，获取更多电子元器件知识、电路讲解、型号资料、电子资讯，欢迎留言讨论。