引言 在半导体制造与微纳加工行业,光刻胶剥离液的使用量庞大。传统剥离液存在环境污染、资源消耗等问题,可再生光刻胶剥离液凭借环保与可持续优势成为研究热点。同时,白光干涉仪在光刻图形测量中的应用,为保障工艺质量提供了关键技术支撑。 可再生光刻胶剥离液及其制备方法 常见可再生光刻胶剥离液类型 生物基剥离液 生物基剥离液以生物质为原料,如植物提取物、发酵产物等。其主要成分包含有机酸、醇类等天然物质,这些物质能够与光刻胶发生物理或化学反应,实现光刻胶的有效剥离。例如,利用柠檬酸等有机酸的络合能力,破坏光刻胶分子结构;以生物乙醇作为溶剂,增强对光刻胶的溶解性能。生物基剥离液具有来源广泛、可生物降解的特点,极大降低了对环境的污染 。 可回收型剥离液 可回收型剥离液通过特殊的分离技术,在使用后能够将其中的有效成分回收再利用。常见的回收方法包括蒸馏、萃取等。以含有特定有机溶剂的剥离液为例,使用后可通过蒸馏的方式,依据各成分沸点差异,将有机溶剂分离提纯,重新用于剥离液的配制。这种剥离液减少了原材料的消耗,降低了生产成本,同时也减少了废弃物的产生。 可再生光刻胶剥离液制备要点 制备生物基剥离液时,需对生物质原料进行预处理,如提取、发酵优化等,以提高有效成分的含量和活性。在成分复配阶段,要精确控制有机酸、溶剂、助剂等的比例,确保剥离液对不同类型光刻胶的剥离效果。对于可回收型剥离液,制备过程中需考虑后续回收工艺的适配性,选择合适的溶剂和添加剂,保证回收过程简单高效且不影响剥离液性能。此外,无论哪种类型,都要对剥离液的稳定性、腐蚀性等性能进行严格测试和优化,通过调整配方和工艺参数,使剥离液满足工业生产需求。 白光干涉仪在光刻图形测量中的应用 测量原理 白光干涉仪基于光的干涉特性,将白光光源发出的光经分光镜分为测量光和参考光。测量光照射到待测光刻图形表面反射回来,与参考光相遇产生干涉条纹。由于光刻图形不同位置的高度差异,导致反射光的光程差不同,进而形成不同的干涉条纹图案。通过分析干涉条纹的形状、间距和强度等信息,结合光程差与表面高度的对应关系,可精确计算出光刻图形的高度、深度、线宽等参数。 测量优势 白光干涉仪具备高精度、非接触式测量的特点,其测量精度可达纳米级别,能够精准捕捉光刻图形细微的尺寸变化。非接触测量避免了对脆弱光刻图形的物理损伤,保证了样品的完整性。同时,测量速度快,可实现实时在线检测,并能通过专业软件对测量数据进行可视化处理,直观呈现光刻图形的形貌特征,便于工艺优化和质量控制。 实际应用 在使用可再生光刻胶剥离液的工艺中,白光干涉仪发挥着重要作用。剥离前,可测量光刻胶的厚度、光刻图形的初始形貌,评估光刻工艺的质量;剥离过程中,实时监测光刻胶的去除情况,判断剥离进程是否正常;剥离完成后,精确测量残留光刻胶的厚度、基片表面的粗糙度以及光刻图形的最终尺寸,为优化可再生剥离液配方和剥离工艺提供准确的数据支持,确保产品符合设计要求 。 一款可以“实时”动态/静态 微纳级3D轮廓测量的白光干涉仪 1)一改传统白光干涉操作复杂的问题,实现一键智能聚焦扫描,亚纳米精度下实现卓越的重复性表现。 2)系统集成CST连续扫描技术,Z向测量范围高达100mm,不受物镜放大倍率的影响的高精度垂直分辨率,为复杂形貌测量提供全面解决方案。 3)可搭载多普勒激光测振系统,实现实现“动态”3D轮廓测量。 实际案例 (以上为新启航实测样品数据结果) 1,优于1nm分辨率,轻松测量硅片表面粗糙度测量,Ra=0.7nm (以上为新启航实测样品数据结果) 2,毫米级视野,实现5nm-有机油膜厚度扫描 (以上为新启航实测样品数据结果) 3,卓越的“高深宽比”测量能力,实现深蚀刻槽深槽宽测量。