标签: 白光干涉

引言 在半导体器件制造工艺中，硅基 MICRO OLED 的制作工艺尤为关键，其中阳极像素光刻内切结构的精确制作对于提升 OLED 性能起着重要作用。同时，在光刻工艺中，对光刻图形的精准测量是确保产品质量与性能的必要环节，白光干涉仪在此方面展现出独特优势。 硅基 MICRO OLED 阳极像素光刻内切结构 传统光刻工艺在制作硅基 OLED 阳极像素光刻内切结构时，通常在硅片底部涂覆剥离胶，再涂光刻胶，经曝光、显影来形成结构。然而，此方法受温度等因素影响大，内切结构稳定性差、精度低，显影后易出现底部外延及阳极金属粘连问题。为解决这些问题，新型的硅基 OLED 阳极像素光刻内切结构被提出。该结构一般由硅片、正性光刻胶 B - PR、正性光刻胶 T - PR 和金属阳极组成。在制作时，先在硅片上涂覆正性光刻胶 B - PR，使用特定线宽掩模版（如 0.5 - 1.0 微米线宽）通过 i 线光刻机进行第一次曝光。接着，在正性光刻胶 B - PR 上旋涂正性光刻胶 T - PR，更换为 0.5 - 1.5 微米线宽掩模版后，再次用 i 线光刻机曝光。最后进行显影，得到理想型内切结构形貌。正性光刻胶 B - PR 分辨率 i - line 极限线宽可达 0.3 - 1 微米，正性光刻胶 T - PR i - line 线宽可达 0.5 - 1.5 微米，能够精确控制内切结构的尺寸和深度，有效消除底部外延，为制作高分辨率 OLED 理想阳极像素奠定良好基础。 白光干涉仪在光刻图形测量中的应用 测量原理 白光干涉仪利用白光干涉原理工作。其通过测量反射光与参考光之间的光程差，来精确获取待测表面的高度信息。在测量光刻图形时，将待测样品放置在载物台上，调整位置使测量区域位于干涉仪头视场范围内。仪器发出的白光经分光镜分为两束，一束照射到样品表面反射回来，另一束作为参考光，两束光相遇产生干涉图样。通过分析干涉图样，就能得到光刻图形的相关参数。 测量优势 白光干涉仪具有诸多优势。首先是高精度，其测量精度通常可达纳米级别，对于微小的光刻图形深度、凹槽深度和宽度测量具有极高准确性，这是许多其他测量方法难以企及的。其次，它属于非接触式测量，避免了传统接触式测量可能对光刻图形造成的损伤，保证了样品的完整性与原有性能。再者，测量速度快，可实现在线测量和实时监控，极大提高了生产检测效率。而且，测量数据能通过专业软件进行可视化处理，以直观的图像和清晰的数据展示测量结果，便于分析与评估光刻图形质量。 实际应用 在光刻工艺中，白光干涉仪可用于测量光刻胶薄膜表面形貌、光刻深度、凹槽深度和宽度等关键参数。例如，在半导体制造中，对于硅基 MICRO OLED 的光刻图形，能精确测量其阳极像素光刻内切结构的深度和宽度，判断是否符合设计要求，确保器件性能。在光学元件制造领域，也可用于检测微纳结构的光刻图形质量，保障光学元件的光学性能。 TopMap Micro View白光干涉3D轮廓仪 一款可以“实时”动态/静态 微纳级3D轮廓测量的白光干涉仪 1)一改传统白光干涉操作复杂的问题，实现一键智能聚焦扫描，亚纳米精度下实现卓越的重复性表现。 2)系统集成CST连续扫描技术，Z向测量范围高达100mm，不受物镜放大倍率的影响的高精度垂直分辨率，为复杂形貌测量提供全面解决方案。 3）可搭载多普勒激光测振系统，实现实现“动态”3D轮廓测量。 实际案例 1，优于1nm分辨率，轻松测量硅片表面粗糙度测量，Ra=0.7nm 2，毫米级视野，实现5nm-有机油膜厚度扫描 3，卓越的“高深宽比”测量能力，实现光刻图形凹槽深度和开口宽度测量。

在白光干涉中，相移技术是一种重要的测量方法，它通过引入相位变化来获取被测物体的表面形貌或厚度等信息。以下是对白光干涉中相移技术引入的相位变化的详细解释： 一、相移技术的原理 相移技术是通过改变干涉系统中某一束光的相位，并观察干涉条纹的变化来测量被测物体的特性。在白光干涉中，相移通常是通过改变参考光或测试光的相位来实现的。当相位发生变化时，干涉条纹的位置、形状和对比度等都会发生变化，这些变化与被测物体的特性有关。 二、相位变化的引入方式 参考光相位变化：通过改变参考光的相位来引入相位变化。这可以通过在参考光路中插入相位调制器（如压电陶瓷等）来实现。当相位调制器受到电压或机械力的作用时，会改变其折射率或长度，从而改变参考光的相位。 测试光相位变化：同样地，测试光的相位也可以通过类似的方式改变。不过，由于测试光通常要经过被测物体，因此改变测试光的相位可能涉及到对被测物体的直接操作或调整。 三、相位变化对干涉条纹的影响 干涉条纹的移动：当相位发生变化时，干涉条纹的位置会发生移动。这种移动与被测物体的表面形貌或厚度变化有关。通过测量干涉条纹的移动量，可以推算出被测物体的特性。 干涉条纹的对比度变化：相位变化还会影响干涉条纹的对比度。当相位差为整数倍或半整数倍的π时，干涉条纹的对比度最大或最小。通过测量干涉条纹的对比度变化，可以进一步了解被测物体的特性。 四、相移技术的应用 相移技术在白光干涉测量中具有广泛的应用价值。例如： 表面形貌测量：通过测量干涉条纹的移动和对比度变化，可以获取被测物体的表面形貌信息。这对于微纳制造、光学元件检测等领域具有重要意义。 薄膜厚度测量：在薄膜厚度测量中，相移技术可以精确测量薄膜的厚度和折射率等参数。这对于半导体材料、光学薄膜等领域具有重要意义。 五、注意事项 在使用相移技术进行白光干涉测量时，需要注意以下几点： 相位调制的准确性：相位调制的准确性直接影响测量结果的精度。因此，需要选择高精度的相位调制器，并严格控制其操作条件。 环境因素的影响：环境因素（如温度、振动等）可能会对测量结果产生干扰。因此，需要在测量过程中采取适当的措施来减小这些因素的影响。 数据处理和分析：由于白光干涉测量中涉及到大量的数据处理和分析工作，因此需要采用合适的数据处理方法和算法来提取有用的信息。 综上所述，白光干涉中的相移技术通过引入相位变化来获取被测物体的特性信息。这种技术在表面形貌测量、薄膜厚度测量等领域具有广泛的应用价值。在使用该技术时，需要注意相位调制的准确性、环境因素的影响以及数据处理和分析等方面的问题。 TopMap Micro View白光干涉3D轮廓仪 一款可以“实时”动态/静态 微纳级3D轮廓测量的白光干涉仪 1)一改传统白光干涉操作复杂的问题，实现一键智能聚焦扫描，亚纳米精度下实现卓越的重复性表现。 2)系统集成CST连续扫描技术，Z向测量范围高达100mm，不受物镜放大倍率的影响的高精度垂直分辨率，为复杂形貌测量提供全面解决方案。 3）可搭载多普勒激光测振系统，实现实现“动态”3D轮廓测量。 实际案例 1，优于1nm分辨率，轻松测量硅片表面粗糙度测量，Ra=0.7nm 2，毫米级视野，实现5nm-有机油膜厚度扫描 3，卓越的“高深宽比”测量能力，实现光刻图形凹槽深度和开口宽度测量。

Mach-Zehnder型干涉（马赫-曾德尔干涉）的测量原理主要基于光的干涉现象和相位差的变化。以下是对其测量原理的详细解释： 一、基本原理 马赫-曾德尔干涉仪利用分束器将单一光源发出的光线分为两条光路，这两条光路分别经过不同的路径后再合并在一起。在合并处，两束光会发生干涉现象，形成明暗相间的干涉条纹。这些干涉条纹的形状、间距和位置取决于两条光路的相位差，而相位差又与被测物体的某些特性（如折射率、厚度等）有关。因此，通过观察和分析干涉条纹的变化，可以推断出被测物体的特性。 二、光路设计 马赫-曾德尔干涉仪的光路设计包括光源、分束器、两个光波导（或光路）、相位调制器（在某些应用中）和检测器等组件。其中，光源可以是激光等单一波长的光源；分束器用于将入射光分为两束；两个光波导分别引导两束光经过不同的路径；相位调制器（在某些情况下）用于改变其中一束光的相位；检测器则用于观测干涉条纹并记录测量结果。 三、相位差与干涉条纹的关系 在马赫-曾德尔干涉仪中，两条光路的相位差是由光程差决定的。光程差是指两束光在传播过程中经过的路径长度之差。当两束光在合并处相遇时，它们的相位差会导致干涉条纹的形成。具体来说，当相位差为2nπ（n为整数）时，两束光相干加强，形成亮条纹；当相位差为(n+1/2)π时，两束光相干减弱，形成暗条纹。因此，通过观察干涉条纹的明暗变化，可以推断出两条光路的相位差。 四、测量原理与应用 马赫-曾德尔干涉仪的测量原理是通过改变其中一条光路的相位（例如通过改变光波导中的折射率或长度），并观察干涉条纹的变化来测量被测物体的特性。这种干涉仪在光学、量子计算等领域有着广泛的应用价值。例如，它可以用于测量光的波长、折射率、厚度等参数；还可以用于光学传感和光学信号处理等方面。此外，马赫-曾德尔干涉仪还常用于光纤通信系统中的光信号调制和解调等应用。 五、注意事项 在使用马赫-曾德尔干涉仪进行测量时，需要注意以下几点： 确保光源的稳定性，以避免光源波动对测量结果的影响。 精确控制光路中的各个组件，以确保测量的准确性。 注意环境因素的影响，如温度、振动等，这些因素可能会对测量结果产生干扰。 在进行复杂测量时，可能需要采用更高级的数据处理和分析方法。 综上所述，Mach-Zehnder型干涉（马赫-曾德尔干涉）的测量原理是基于光的干涉现象和相位差的变化。通过观察和分析干涉条纹的变化，可以推断出被测物体的特性。这种干涉仪在光学、量子计算等领域具有广泛的应用价值。 TopMap Micro View白光干涉3D轮廓仪 一款可以“实时”动态/静态 微纳级3D轮廓测量的白光干涉仪 1)一改传统白光干涉操作复杂的问题，实现一键智能聚焦扫描，亚纳米精度下实现卓越的重复性表现。 2)系统集成CST连续扫描技术，Z向测量范围高达100mm，不受物镜放大倍率的影响的高精度垂直分辨率，为复杂形貌测量提供全面解决方案。 3）可搭载多普勒激光测振系统，实现实现“动态”3D轮廓测量。 实际案例 1，优于1nm分辨率，轻松测量硅片表面粗糙度测量，Ra=0.7nm 2，毫米级视野，实现5nm-有机油膜厚度扫描 3，卓越的“高深宽比”测量能力，实现光刻图形凹槽深度和开口宽度测量。

Linnik型干涉（林尼克干涉）的测量原理主要基于光的干涉现象，即光的波动性质导致光波在空间中叠加和干涉的现象。以下是对其测量原理的详细解释： 一、基本原理 在Linnik干涉仪中，光源发出的光线经过分光镜后被分为两束：一束直接照射到被测样品上（称为样本光），另一束则作为参考光。这两束光在干涉仪内部经过反射和透射后，最终在检测器上相遇并产生干涉现象。干涉产生的波纹图样被称为干涉图像，该图像包含了关于被测样品的有用信息。 二、光路设计 Linnik干涉仪的光路设计相对复杂，通常包括光源、分光镜、被测样品、物镜、透镜、反射镜以及检测器等组件。其中，分光镜用于将入射光分为两束；物镜和透镜则用于将样本光和参考光聚焦到检测器上；反射镜则用于调整光路，使两束光能够在检测器上相遇并产生干涉。 三、干涉图像的形成与解读 干涉图像的形成：当样本光和参考光在检测器上相遇时，它们会相互叠加并产生干涉现象。由于两束光的路径差不同，因此会在检测器上形成明暗相间的干涉条纹。这些条纹的形状、间距和位置取决于被测样品的表面形貌、厚度变化以及光学特性等因素。 干涉图像的解读：通过观测干涉图像的变化，可以推断出被测样品的性质。例如，当被测样品的表面存在微小起伏时，干涉条纹会发生弯曲或变形；当被测样品的厚度发生变化时，干涉条纹的间距也会相应改变。通过对这些干涉图像的分析和处理，可以获得关于被测样品的详细信息。 四、测量精度与稳定性 Linnik干涉仪具有高精度和稳定性的优点。由于它采用共光路设计，即样本光和参考光在干涉仪内部经过相同的路径，因此可以减小环境因素对测量结果的影响。此外，Linnik干涉仪还具有较高的分辨率和灵敏度，能够检测到微小的表面形貌变化和光学特性差异。 五、应用领域 Linnik干涉仪在光学和材料科学领域具有广泛的应用价值。它可以用于分析材料的表面形貌、厚度变化和光学特性等参数；还可以用于非破坏性测试，如检测半导体器件的质量和分析涂层的均匀性等。此外，在生物医学领域中，Linnik干涉仪也被用于细胞和组织样本的表面分析和光学特性评估等方面。 综上所述，Linnik型干涉（林尼克干涉）的测量原理是基于光的干涉现象，通过观测干涉图像的变化来推断被测样品的性质。其高精度、稳定性和广泛的应用领域使其成为光学和材料科学领域中不可或缺的重要工具。 TopMap Micro View白光干涉3D轮廓仪 一款可以“实时”动态/静态 微纳级3D轮廓测量的白光干涉仪 1)一改传统白光干涉操作复杂的问题，实现一键智能聚焦扫描，亚纳米精度下实现卓越的重复性表现。 2)系统集成CST连续扫描技术，Z向测量范围高达100mm，不受物镜放大倍率的影响的高精度垂直分辨率，为复杂形貌测量提供全面解决方案。 3）可搭载多普勒激光测振系统，实现实现“动态”3D轮廓测量。 实际案例 1，优于1nm分辨率，轻松测量硅片表面粗糙度测量，Ra=0.7nm 2，毫米级视野，实现5nm-有机油膜厚度扫描 3，卓越的“高深宽比”测量能力，实现光刻图形凹槽深度和开口宽度测量。

Fizeau型干涉（斐索干涉）的测量原理主要基于等厚干涉。以下是对其测量原理的详细解释： 一、基本原理 斐索干涉仪利用平行光入射到厚度变化均匀、折射率均匀的薄膜上、下表面而形成的干涉条纹来进行测量。当光线在薄膜的上下表面反射时，会形成两束相干光：一束是来自薄膜上表面的反射光（通常用作参考光束），另一束是透过薄膜并从被测表面反射回来的光（携带被测表面的形状信息）。这两束光在干涉仪内部重合，形成等厚干涉条纹。 二、光路设计 斐索干涉仪的光路设计包括点光源、准直物镜、分束器、被测件和观测系统等部分。点光源发出的光线经准直后，近乎正入射地照射被观察的透明物体。光线在物体上下表面间多次反射，并从反射方向观察干涉条纹。常用的斐索干涉仪有平面和球面两种类型，分别由不同的组件构成以适应不同的测量需求。 三、干涉条纹的形成与解读 干涉条纹的形成：当参考光束和检测光束重合时，它们会在观测系统中形成干涉条纹。这些条纹的形状和间隔取决于被测表面的形状和薄膜的厚度变化。 干涉条纹的解读：通过观测干涉条纹的形状和间隔，可以推断出被测表面的形状信息。例如，如果干涉条纹是平行的，则表明被测表面是平面的；如果干涉条纹是弯曲的，则表明被测表面是曲面的。 四、测量精度与稳定性 斐索干涉仪的测量精度通常较高，一般可以达到检测用光源平均波长的十分之一到百分之一。其稳定性也较好，这主要得益于其共光路原理。在干涉仪内部，测量和参考的光束路径是相同的，因此由空气湍流、声学干扰和其他因素引起的波动对于测量和参考波束路径是相同的，并被抵消。这种设计使得斐索干涉仪对非球面和自由曲面的灵活光学测量更易商用化。 五、应用领域 斐索干涉仪在光学元件的制造和检测中发挥着重要作用。它可以用于检测光学元件的面形、光学镜头的波面像差以及光学材料的均匀性等。此外，斐索干涉仪还可以用于测量球面的曲率半径和检测无限、有限共轭距镜头的波面像差等。 综上所述，Fizeau型干涉（斐索干涉）的测量原理是基于等厚干涉的，通过观测干涉条纹的形状和间隔来推断被测表面的形状信息。其高精度和稳定性使得它在光学元件的制造和检测中具有广泛的应用价值。 TopMap Micro View白光干涉3D轮廓仪 一款可以“实时”动态/静态 微纳级3D轮廓测量的白光干涉仪 1)一改传统白光干涉操作复杂的问题，实现一键智能聚焦扫描，亚纳米精度下实现卓越的重复性表现。 2)系统集成CST连续扫描技术，Z向测量范围高达100mm，不受物镜放大倍率的影响的高精度垂直分辨率，为复杂形貌测量提供全面解决方案。 3）可搭载多普勒激光测振系统，实现实现“动态”3D轮廓测量。 实际案例 1，优于1nm分辨率，轻松测量硅片表面粗糙度测量，Ra=0.7nm 2，毫米级视野，实现5nm-有机油膜厚度扫描 3，卓越的“高深宽比”测量能力，实现光刻图形凹槽深度和开口宽度测量。