村田是目前全球量产硅电容的领先企业,其在2016年收购了法国IPDiA头部硅电容器公司,并于2023年6月宣布投资约100亿日元将硅电容产能提升两倍。 以下内容主要来自村田官网信息整理,村田高密度硅电容器采用半导体MOS工艺开发,并使用3D结构来大幅增加电极表面,因此在给定的占位面积内增加了静电容量。村田的硅技术以嵌入非结晶基板的单片结构为基础(单层MIM和多层MIM—MIM是指金属 / 绝缘体 / 金属) 村田硅电容采用先进3D拓扑结构在100um内,使开发的有效静电容量面积相当于80个陶瓷层(可视需求提供更低值)。由于使用非常线性和低色散的电介质,小型化、静电容量值和电气性能实现了优化 村田的硅电容器与半导体MOS工艺源自相同的DNA,具有以经过验证的一致性数据建立的全模块默认模型,因此提供了可预测、极为可靠的性能。相较于其他电容器技术,村田的硅电容器技术在可靠性方面提高了10倍,这主要得益于在高温固化过程中生成的氧化物。此外,所有的电气测试都在生产步骤结束时完成,这就避免了早期故障 村田硅电容与MLCC对比 当前村田在几个典型领域都有对应产品,以下为官网硅电容选型列表,可以看到村田硅电容根据连接方式,厚度,温度,ESL等特性做了分类,和MLCC形成了较好的互补,硅电容用来覆盖汽车、宽带通信、RF功率放大、医疗、RFID等领域,同时村田的硅电容很多可以通过IPD的形成,可以在这些特殊领域实现很好的利润,在21年之前硅电容还是较多的在军工和航天中应用,21年之后在民用领域,受益于高稳定性,小尺寸,易结合先进封装等优势市场也在逐步扩大。 典型应用:汽车领域 当前问题:放置在“引擎盖”下的传感器要求尺寸小,稳定性高,可靠性高,温度范围大(当前150°不一定够用) 硅电容解决方式:采用硅电容,通过PICS(Passive integration Connective Substrate)方式装配传感器中,此处硅电容采用了氧化物/氮化物/氧化物电介质叠层和多晶硅顶部电极,电容密度为100nF/mm2,额定电压为16V,击穿电压为30V,漏电流在工作电压和室温下小于0.5 nA,ESR<100mΩ,ESL<250pH,工作温度为-55°C~200°C。 总体来说,村田本身作为电容大厂,MLCC已经在市场上占据了较多的份额,硅电容部分作为针对特定领域的产品出现,目前还是作为MLCC的补充,因此,我们看到,目前村田的硅电容还是以高耐压,高温,高稳定度,较低电容值,和MLCC形成较好的补充,如前面介绍,硅电容也可以走低压大容值路线,这个部分可以替代一些高端MLCC。