tag 标签: 碳化硅衬底厚度

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  • 2025-6-26 09:53
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    自动对刀技术对碳化硅衬底切割起始位置精度的提升及厚度均匀性优化
    摘要:碳化硅衬底切割对起始位置精度与厚度均匀性要求极高,自动对刀技术作为关键技术手段,能够有效提升切割起始位置精度,进而优化厚度均匀性。本文深入探讨自动对刀技术的作用机制、实现方式及其对切割工艺优化的重要意义。 一、引言 碳化硅衬底是第三代半导体器件的核心基础材料,其切割质量直接影响器件性能与成品率。在碳化硅衬底切割过程中,起始位置精度不足会导致切割路径偏移,造成材料浪费与加工误差;而厚度不均匀则会影响后续芯片制造工艺的稳定性。自动对刀技术通过精确确定刀具与工件的相对位置,为提升切割起始位置精度与优化厚度均匀性提供了有效途径。 二、自动对刀技术原理与分类 (一)技术原理 自动对刀技术基于传感器获取刀具与工件表面的位置信息,通过数据处理与控制系统实现刀具位置的精确调整。其核心在于快速、准确地感知刀具与工件的接触状态,将物理接触信号转化为电信号或数字信号,进而驱动执行机构完成对刀操作 。 (二)常见分类 常见的自动对刀技术包括接触式对刀与非接触式对刀。接触式对刀通过刀具与工件直接接触,利用压力传感器、电感传感器等检测接触瞬间,实现位置校准;非接触式对刀则借助激光、红外等光学手段,在不接触工件的情况下测量刀具与工件的相对位置,具有对刀具和工件无损伤、测量速度快等优势。 三、自动对刀技术对切割起始位置精度的提升 (一)消除系统误差 机床在长期使用过程中会产生机械磨损、热变形等系统误差,影响切割起始位置精度。自动对刀技术能够实时检测刀具位置,通过补偿算法修正机床坐标系与工件坐标系之间的偏差,消除因机床误差导致的起始位置偏移,确保刀具准确落于预设切割起始点。 (二)提高重复定位精度 对于批量碳化硅衬底切割,自动对刀技术可在每次切割前自动校准刀具位置,避免人工对刀的主观性与误差,显著提高切割起始位置的重复定位精度。即使在长时间连续加工过程中,也能保证每片衬底的切割起始位置一致性,为后续切割质量稳定奠定基础。 四、基于起始位置精度提升的厚度均匀性优化 (一)保证切割路径准确性 精确的起始位置确保了切割路径严格按照预设轨迹进行。在碳化硅衬底切割中,若起始位置存在偏差,切割过程中刀具受力不均,易导致切割深度变化,进而造成厚度不均匀。自动对刀技术使刀具从准确位置开始切割,保证切割过程中各点切削深度一致,有效提升厚度均匀性。 (二)实时反馈与调整 自动对刀系统可与切割过程监测系统联动,在切割过程中实时监测刀具位置与切割参数。一旦检测到厚度异常趋势,系统能够快速反馈并调整刀具位置或切割参数,及时纠正偏差,维持切割厚度的稳定性,实现对厚度均匀性的动态优化。 五、自动对刀技术的实现与应用 (一)硬件系统搭建 自动对刀技术的实现依赖于高精度传感器、高性能控制器与稳定的执行机构。选用分辨率高、响应速度快的传感器(如纳米级精度激光位移传感器)实时采集位置信息;采用运算能力强的控制器进行数据处理与算法执行;搭配高精度伺服电机等执行机构,确保刀具位置调整的准确性与快速性。 (二)软件算法优化 开发专用的自动对刀软件算法,实现传感器信号的滤波、处理与分析,以及对刀策略的智能化决策。结合机器学习算法,根据历史对刀数据与切割结果,优化对刀参数与补偿算法,提高自动对刀的精度与适应性,使其更好地满足碳化硅衬底切割工艺需求。 高通量晶圆测厚系统运用第三代扫频OCT技术,精准攻克晶圆/晶片厚度TTV重复精度不稳定难题,重复精度达3nm以下。针对行业厚度测量结果不一致的痛点,经不同时段测量验证,保障再现精度可靠。​ 我们的数据和WAFERSIGHT2的数据测量对比,进一步验证了真值的再现性: (以上为新启航实测样品数据结果) 该系统基于第三代可调谐扫频激光技术,相较传统双探头对射扫描,可一次完成所有平面度及厚度参数测量。其创新扫描原理极大提升材料兼容性,从轻掺到重掺P型硅,到碳化硅、蓝宝石、玻璃等多种晶圆材料均适用:​ 对重掺型硅,可精准探测强吸收晶圆前后表面;​ 点扫描第三代扫频激光技术,有效抵御光谱串扰,胜任粗糙晶圆表面测量;​ 通过偏振效应补偿,增强低反射碳化硅、铌酸锂晶圆测量信噪比; (以上为新启航实测样品数据结果) 支持绝缘体上硅和MEMS多层结构测量,覆盖μm级到数百μm级厚度范围,还可测量薄至4μm、精度达1nm的薄膜。 (以上为新启航实测样品数据结果) 此外,可调谐扫频激光具备出色的“温漂”处理能力,在极端环境中抗干扰性强,显著提升重复测量稳定性。 (以上为新启航实测样品数据结果) 系统采用第三代高速扫频可调谐激光器,摆脱传统SLD光源对“主动式减震平台”的依赖,凭借卓越抗干扰性实现小型化设计,还能与EFEM系统集成,满足产线自动化测量需求。运动控制灵活,适配2-12英寸方片和圆片测量。
  • 2025-6-25 11:31
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    碳化硅衬底切割进给量与磨粒磨损状态的协同调控模型
    摘要:碳化硅衬底切割过程中,进给量与磨粒磨损状态紧密关联,二者协同调控对提升切割质量与效率至关重要。本文深入剖析两者相互作用机制,探讨协同调控模型构建方法,旨在为优化碳化硅衬底切割工艺提供理论与技术支撑。 一、引言 碳化硅凭借优异的物理化学性能,成为第三代半导体材料的核心。在其衬底加工环节,切割是关键工序。切割进给量直接影响切割效率与材料去除率,而磨粒磨损状态关乎切割工具寿命与加工精度。二者相互影响,单一参数的调整难以满足高质量、高效率切割需求,构建协同调控模型成为突破工艺瓶颈的关键。 二、进给量与磨粒磨损状态的相互作用机制 (一)进给量对磨粒磨损的影响 在碳化硅衬底切割时,进给量大小显著影响磨粒所受载荷。当进给量增大,单位时间内参与切削的材料增多,磨粒承受的切削力、摩擦力与冲击载荷急剧上升。高强度的载荷促使磨粒磨损加速,不仅加剧磨粒的机械磨损,还可能引发热磨损,导致磨粒尖端迅速钝化甚至脱落。反之,进给量较小,磨粒受力相对平稳,磨损速度减缓,但其切割效率较低。 (二)磨粒磨损对进给量的限制 磨损后的磨粒,切削刃锋利度下降,切割能力减弱。若此时保持较大进给量,磨粒难以有效切削碳化硅材料,会导致切割力进一步增大,切割表面质量恶化,甚至可能引发切割工具振动与破损。因此,随着磨粒磨损加剧,需相应降低进给量,以维持稳定的切割过程,这也限制了进给量的提升空间。 三、协同调控模型的构建 (一)模型构建思路 以切削力学、材料磨损理论为基础,结合碳化硅材料特性,构建多变量耦合的协同调控模型。将进给量、磨粒磨损状态、切割力、材料去除率等参数纳入模型体系,通过分析各参数间的非线性关系,建立数学方程描述它们之间的内在联系,从而实现对进给量与磨粒磨损状态的协同调控。 (二)模型构建方法 运用实验研究与数值模拟相结合的方式获取数据。设计不同进给量条件下的碳化硅衬底切割实验,实时监测磨粒磨损形貌、切割力、材料去除率等参数变化;同时,借助有限元分析软件,模拟切割过程中磨粒的受力与磨损行为。整合实验与模拟数据,采用回归分析、机器学习算法等方法,优化模型参数,提高模型的准确性与适用性。 四、协同调控模型的应用策略 (一)在线监测与实时调控 在切割设备上安装传感器,对磨粒磨损状态(如磨粒形貌、磨损量)与切割过程参数(进给量、切割力)进行实时监测。将监测数据传输至控制系统,控制系统依据协同调控模型,动态调整进给量,确保在磨粒不同磨损阶段,进给量始终处于最优状态,维持稳定的切割质量与效率。 (二)基于模型的工艺规划 在碳化硅衬底切割前,根据切割要求与磨粒初始状态,利用协同调控模型进行工艺规划。预先设定合理的进给量变化曲线,使切割过程中进给量与磨粒磨损状态相匹配,减少因参数不匹配导致的切割质量波动与磨粒异常磨损,提高切割工艺的稳定性与可靠性。 高通量晶圆测厚系统运用第三代扫频OCT技术,精准攻克晶圆/晶片厚度TTV重复精度不稳定难题,重复精度达3nm以下。针对行业厚度测量结果不一致的痛点,经不同时段测量验证,保障再现精度可靠。​ 我们的数据和WAFERSIGHT2的数据测量对比,进一步验证了真值的再现性: (以上为新启航实测样品数据结果) 该系统基于第三代可调谐扫频激光技术,相较传统双探头对射扫描,可一次完成所有平面度及厚度参数测量。其创新扫描原理极大提升材料兼容性,从轻掺到重掺P型硅,到碳化硅、蓝宝石、玻璃等多种晶圆材料均适用:​ 对重掺型硅,可精准探测强吸收晶圆前后表面;​ 点扫描第三代扫频激光技术,有效抵御光谱串扰,胜任粗糙晶圆表面测量;​ 通过偏振效应补偿,增强低反射碳化硅、铌酸锂晶圆测量信噪比; (以上为新启航实测样品数据结果) 支持绝缘体上硅和MEMS多层结构测量,覆盖μm级到数百μm级厚度范围,还可测量薄至4μm、精度达1nm的薄膜。 (以上为新启航实测样品数据结果) 此外,可调谐扫频激光具备出色的“温漂”处理能力,在极端环境中抗干扰性强,显著提升重复测量稳定性。 (以上为新启航实测样品数据结果) 系统采用第三代高速扫频可调谐激光器,摆脱传统SLD光源对“主动式减震平台”的依赖,凭借卓越抗干扰性实现小型化设计,还能与EFEM系统集成,满足产线自动化测量需求。运动控制灵活,适配2-12英寸方片和圆片测量。
  • 2025-6-13 10:13
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    基于进给量梯度调节的碳化硅衬底切割厚度均匀性提升技术
    碳化硅衬底切割过程中,厚度不均匀问题严重影响其后续应用性能。传统固定进给量切割方式难以适应材料特性与切割工况变化,基于进给量梯度调节的方法为提升切割厚度均匀性提供了新思路,对推动碳化硅衬底加工技术发展具有重要价值。 技术原理分析 梯度调节依据 碳化硅硬度高、脆性大,切割起始阶段,材料表面完整,刀具与材料接触状态稳定,可采用相对较大的进给量提高加工效率 。随着切割深入,刀具磨损加剧,材料内部应力分布改变,若仍保持大进给量,易导致局部切割力过大,造成厚度不均 。此时依据切割深度、刀具磨损状态等因素,逐步减小进给量,能有效控制切割力在合理范围,维持材料均匀去除,保证厚度均匀性 。 调节机制 构建以切割深度为自变量,进给量为因变量的梯度调节函数 。通过传感器实时监测切割深度、刀具振动、切割力等参数,将数据反馈至控制系统 。控制系统依据预设的梯度调节模型,动态调整进给量 。例如,在切割初期 0 - 1mm 深度,设定进给量为 0.5mm/min;1 - 3mm 深度,进给量逐渐降至 0.3mm/min;3mm 深度后,保持 0.2mm/min 。同时,结合刀具磨损补偿算法,进一步优化进给量调节策略,确保切割过程稳定 。 实验设计与效果验证 实验方案 选取相同规格的碳化硅衬底,设置对照组与实验组 。对照组采用传统固定进给量(0.3mm/min)切割;实验组采用基于进给量梯度调节的切割方式 。实验过程中,利用高精度位移传感器监测切割深度,力传感器采集切割力数据,振动传感器记录刀具振动情况 。切割完成后,使用光学干涉仪对衬底进行多点厚度测量,获取厚度数据 。 数据分析 对比两组实验数据,分析进给量梯度调节对切割力波动、刀具振动幅度以及衬底厚度均匀性的影响 。计算厚度标准差、变异系数等指标,定量评估厚度均匀性 。绘制切割力、振动幅值随切割深度变化曲线,直观展示梯度调节技术对加工稳定性的提升作用 。通过有限元模拟辅助分析,验证实验结果的可靠性,揭示进给量梯度调节提升厚度均匀性的内在机理 。 技术实施要点 调节参数设定 依据碳化硅衬底规格、刀具性能等确定梯度调节的关键参数 。包括初始进给量、梯度变化区间、调节步长等 。通过预实验或模拟仿真,优化参数组合,找到不同工况下的最佳调节方案 。例如,对于较薄的衬底,适当减小初始进给量和调节步长;对于硬度更高的碳化硅材料,加大梯度变化区间 。 系统集成与优化 将传感器、控制系统、执行机构等进行高效集成,确保数据采集、处理与指令执行的及时性和准确性 。优化控制算法,提高系统对复杂工况的适应性 。加强各部件之间的协同配合,减少信号传输延迟和干扰,保障进给量梯度调节的精确实施 。 高通量晶圆测厚系统运用第三代扫频OCT技术,精准攻克晶圆/晶片厚度TTV重复精度不稳定难题,重复精度达3nm以下。针对行业厚度测量结果不一致的痛点,经不同时段测量验证,保障再现精度可靠。​ 我们的数据和WAFERSIGHT2的数据测量对比,进一步验证了真值的再现性: (以上为新启航实测样品数据结果) 该系统基于第三代可调谐扫频激光技术,相较传统双探头对射扫描,可一次完成所有平面度及厚度参数测量。其创新扫描原理极大提升材料兼容性,从轻掺到重掺P型硅,到碳化硅、蓝宝石、玻璃等多种晶圆材料均适用:​ 对重掺型硅,可精准探测强吸收晶圆前后表面;​ 点扫描第三代扫频激光技术,有效抵御光谱串扰,胜任粗糙晶圆表面测量;​ 通过偏振效应补偿,增强低反射碳化硅、铌酸锂晶圆测量信噪比; (以上为新启航实测样品数据结果) 支持绝缘体上硅和MEMS多层结构测量,覆盖μm级到数百μm级厚度范围,还可测量薄至4μm、精度达1nm的薄膜。 (以上为新启航实测样品数据结果) 此外,可调谐扫频激光具备出色的“温漂”处理能力,在极端环境中抗干扰性强,显著提升重复测量稳定性。 (以上为新启航实测样品数据结果) 系统采用第三代高速扫频可调谐激光器,摆脱传统SLD光源对“主动式减震平台”的依赖,凭借卓越抗干扰性实现小型化设计,还能与EFEM系统集成,满足产线自动化测量需求。运动控制灵活,适配2-12英寸方片和圆片测量。
  • 2025-6-12 10:14
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    切割进给量与碳化硅衬底厚度均匀性的量化关系及工艺优化
    引言 在碳化硅衬底加工过程中,切割进给量是影响其厚度均匀性的关键工艺参数。深入探究二者的量化关系,并进行工艺优化,对提升碳化硅衬底质量、满足半导体器件制造需求具有重要意义。 量化关系分析 切割机理对厚度均匀性的影响 碳化硅硬度高、脆性大,切割过程中,切割进给量直接影响切割力大小与分布 。当进给量较小时,切割工具与碳化硅衬底接触区域的切削力相对较小且稳定,材料去除过程较为均匀,有利于保证衬底厚度均匀性 。随着进给量增大,切割力急剧增加,切割工具对衬底的冲击作用增强,易导致局部材料过度去除,使衬底表面出现凹坑、裂纹等缺陷,破坏厚度均匀性 。此外,较大的进给量还会引发切割工具振动加剧,进一步恶化厚度均匀性 。 理论模型构建 基于切削力学理论,结合碳化硅材料特性,构建切割进给量与厚度均匀性的理论模型 。考虑切割力与进给量的非线性关系,以及材料去除率对厚度均匀性的影响,引入相关参数建立方程 。例如,将切割力表示为进给量、切割速度等参数的函数,通过分析切割力对材料去除过程的作用,建立厚度均匀性评价指标(如厚度标准差)与进给量之间的数学模型 。利用有限元分析软件对模型进行模拟验证,优化模型参数,提高模型准确性 。 实验设计与数据分析 实验方案 设计多组对比实验,选取相同规格的碳化硅衬底,在其他工艺参数(如切割速度、切割压力等)保持一致的条件下,设置不同的切割进给量(如 0.1mm/min、0.3mm/min、0.5mm/min 等)进行切割加工 。采用高精度厚度测量仪器(如光学干涉仪)对切割后的衬底进行多点厚度测量,获取厚度数据 。同时,利用显微镜观察衬底表面微观形貌,分析不同进给量下表面缺陷情况 。 数据分析 对实验测量数据进行处理,计算每组实验中衬底厚度的平均值、标准差等统计量,定量评估厚度均匀性 。绘制厚度均匀性评价指标与切割进给量的关系曲线,直观展示二者变化趋势 。运用回归分析方法,拟合出厚度均匀性与切割进给量的经验公式,明确量化关系 。通过方差分析判断切割进给量对厚度均匀性影响的显著性,为工艺优化提供数据支持 。 工艺优化策略 优化进给量参数 根据量化关系分析结果,确定最佳切割进给量范围 。在保证加工效率的前提下,优先选择使厚度均匀性最优的进给量 。对于不同规格或质量要求的碳化硅衬底,通过实验或模拟进一步优化进给量参数,实现个性化加工 。 多参数协同优化 考虑切割过程中各工艺参数的相互影响,开展切割进给量与切割速度、切割压力等参数的协同优化研究 。通过正交实验或响应面法等优化设计方法,分析各参数交互作用对厚度均匀性的影响,建立多参数优化模型,获得综合性能最优的工艺参数组合 。 高通量晶圆测厚系统运用第三代扫频OCT技术,精准攻克晶圆/晶片厚度TTV重复精度不稳定难题,重复精度达3nm以下。针对行业厚度测量结果不一致的痛点,经不同时段测量验证,保障再现精度可靠。​ 我们的数据和WAFERSIGHT2的数据测量对比,进一步验证了真值的再现性: (以上为新启航实测样品数据结果) 该系统基于第三代可调谐扫频激光技术,相较传统双探头对射扫描,可一次完成所有平面度及厚度参数测量。其创新扫描原理极大提升材料兼容性,从轻掺到重掺P型硅,到碳化硅、蓝宝石、玻璃等多种晶圆材料均适用:​ 对重掺型硅,可精准探测强吸收晶圆前后表面;​ 点扫描第三代扫频激光技术,有效抵御光谱串扰,胜任粗糙晶圆表面测量;​ 通过偏振效应补偿,增强低反射碳化硅、铌酸锂晶圆测量信噪比; (以上为新启航实测样品数据结果) 支持绝缘体上硅和MEMS多层结构测量,覆盖μm级到数百μm级厚度范围,还可测量薄至4μm、精度达1nm的薄膜。 (以上为新启航实测样品数据结果) 此外,可调谐扫频激光具备出色的“温漂”处理能力,在极端环境中抗干扰性强,显著提升重复测量稳定性。 (以上为新启航实测样品数据结果) 系统采用第三代高速扫频可调谐激光器,摆脱传统SLD光源对“主动式减震平台”的依赖,凭借卓越抗干扰性实现小型化设计,还能与EFEM系统集成,满足产线自动化测量需求。运动控制灵活,适配2-12英寸方片和圆片测量。
  • 2025-6-11 10:11
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    碳化硅衬底厚度测量探头温漂与材料各向异性的耦合影响研究
    在碳化硅衬底厚度测量中,探头温漂与材料各向异性均会影响测量精度,且二者相互作用形成耦合效应。深入研究这种耦合影响,有助于揭示测量误差根源,为优化测量探头性能提供理论支撑。 耦合影响机制分析 材料各向异性对温漂的促进作用 碳化硅材料具有显著的各向异性,其热膨胀系数、导热系数等热物理性能在不同晶向存在差异 。当测量探头所处环境温度发生变化时,由于材料各向异性,探头不同方向的热膨胀程度不一致,导致内部产生不均匀应力 。这种不均匀应力会进一步影响探头内部传感器的性能,加剧温漂现象 。例如,在沿碳化硅某一晶向,热膨胀系数较大,温度升高时该方向伸长较多,挤压与之相连的传感器部件,使传感器的输出特性发生改变,导致测量误差增大 。 温漂对材料各向异性表现的干扰 测量探头的温漂会改变探头与碳化硅衬底的接触状态或测量环境,从而干扰材料各向异性的准确测量 。温度变化引起探头结构变形,使得探头与衬底表面的接触压力分布不均,不同晶向的测量受力条件改变,导致基于接触式测量获取的材料各向异性参数出现偏差 。同时,温漂导致探头内部电子元件性能波动,影响测量信号的采集与处理,使反映材料各向异性的测量数据失真 。 实验设计与分析 实验方案 设计对比实验,选取具有不同晶向的碳化硅衬底样品,在不同温度环境下,使用同一测量探头进行厚度测量 。实验中,利用高精度温度控制设备,将环境温度设定为多个梯度(如 20℃、40℃、60℃等),在每个温度点稳定后进行测量 。采用应变片、热电偶等传感器,同步监测探头在测量过程中的应力变化和温度变化 。同时,借助先进的光学测量设备,对碳化硅衬底的晶向和材料特性进行精准表征,为后续分析提供基础数据 。 数据处理与分析 对实验测量数据进行处理,分析不同温度、不同晶向条件下,测量探头温漂与材料各向异性对测量结果的影响 。通过计算测量误差,研究温漂与材料各向异性之间的相关性 。运用统计分析方法,如方差分析,判断二者耦合影响在测量误差中的占比 。结合有限元模拟,建立探头 - 碳化硅衬底的耦合模型,模拟不同条件下的应力、温度分布情况,从理论层面验证实验结果,深入探究温漂与材料各向异性的耦合影响规律 。 高通量晶圆测厚系统运用第三代扫频OCT技术,精准攻克晶圆/晶片厚度TTV重复精度不稳定难题,重复精度达3nm以下。针对行业厚度测量结果不一致的痛点,经不同时段测量验证,保障再现精度可靠。​ 我们的数据和WAFERSIGHT2的数据测量对比,进一步验证了真值的再现性: (以上为新启航实测样品数据结果) 该系统基于第三代可调谐扫频激光技术,相较传统双探头对射扫描,可一次完成所有平面度及厚度参数测量。其创新扫描原理极大提升材料兼容性,从轻掺到重掺P型硅,到碳化硅、蓝宝石、玻璃等多种晶圆材料均适用:​ 对重掺型硅,可精准探测强吸收晶圆前后表面;​ 点扫描第三代扫频激光技术,有效抵御光谱串扰,胜任粗糙晶圆表面测量;​ 通过偏振效应补偿,增强低反射碳化硅、铌酸锂晶圆测量信噪比; (以上为新启航实测样品数据结果) 支持绝缘体上硅和MEMS多层结构测量,覆盖μm级到数百μm级厚度范围,还可测量薄至4μm、精度达1nm的薄膜。 (以上为新启航实测样品数据结果) 此外,可调谐扫频激光具备出色的“温漂”处理能力,在极端环境中抗干扰性强,显著提升重复测量稳定性。 (以上为新启航实测样品数据结果) 系统采用第三代高速扫频可调谐激光器,摆脱传统SLD光源对“主动式减震平台”的依赖,凭借卓越抗干扰性实现小型化设计,还能与EFEM系统集成,满足产线自动化测量需求。运动控制灵活,适配2-12英寸方片和圆片测量。