标签: 栅氧化层

考虑栅氧化层SBD，NBTI和MOSFET的SRAM稳定性分析资源大小：6.35MB[摘要]对超薄栅氧化物，采用软击穿(SBD)技术广泛研究，但没有完全集成到电路可靠性模拟。使用一个6TSRAM单元作为通用电路示例时间相关的SBD被纳入电路退化基于指数缺陷电流增长模型[1]进行分析。SRAM细胞稳定性因个体失效机制而退化为特征。多重失