标签: 深紫外

光刻工艺B光刻胶光刻胶的组成：由光敏化合物（PAC)、基体树脂和有机溶剂等正性光刻胶混合而成的胶状液体。都是碳基有机化合物。当受到特定波长光线的作用后特点：正胶中的长链聚合物曝光后分解而变得可溶。，光刻胶会发生化学反应，使优点：分辨率高，边缘整齐，陡直度好；光刻胶在某些特定溶液（显影缺点：粘附性和耐腐蚀性较差，成本高。液）中的溶解特性发生改变。正性胶和负性胶。曝光前对显影液不可溶而曝光后变成可溶的。能得到与掩膜版遮光图案相同的图形。负胶反之。12常用正胶：常用正胶：邻迭氮萘醌gline和iline:DNQ正胶：酚醛树脂,重氮萘醌(PAC)。感光机理：紫外照射后分解放出氮气，同时分子结构重排，产生环的收缩，形成五环烯酮化合物，经水解生成偏甲氧酚醛树脂是水溶性的，能溶……