光刻工艺B 光刻胶 光刻胶的组成：由光敏化合物（PAC)、基体树脂和有机溶剂等 正性光刻胶 混合而成的胶状液体。都是碳基有机化合物。 当受到特定波长光线的作用后 特点：正胶中的长链聚合物曝光后分解而变得可溶。 ，光刻胶会发生化学反应，使 优点：分辨率高，边缘整齐，陡直度好； 光刻胶在某些特定溶液（显影 缺点：粘附性和耐腐蚀性较差，成本高。 液）中的溶解特性发生改变。 正性胶和负性胶。 曝光前对显影液不可溶 而曝光后变成可溶的。 能得到与掩膜版遮光图 案相同的图形。 负胶反之。 1 2 常用正胶： 常用正胶： 邻迭氮萘醌 g line和i line: DNQ正胶：酚醛树脂, 重氮萘醌(PAC)。 感光机理：紫外照射后分解放出氮气，同时分子结构重 排，产生环的收缩，形成五环烯酮化合物，经水解生成 偏甲氧酚醛树脂是水溶性的，能溶……