标签: 湿法刻蚀
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刻蚀工艺§1基本概念刻蚀：就是通过物理和/或化学方法将下层材料中没有被上第七章刻蚀工艺层掩蔽膜材料掩蔽的部分去掉，从而在下层材料上获得与掩蔽膜图形完全对应的图形。岳瑞峰清华大学微电子学研究所微纳器件与系统研究室12刻蚀的品质因数实际刻蚀剖面刻蚀速率：单位时间刻蚀的厚度。横向刻蚀速度RL纵向刻蚀速度RV选择比：不同材料的刻……
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