刻蚀工艺 § 1 基本概念 刻蚀：就是通过物理和/或化学方法将下层材料中没有被上 第七章 刻蚀工艺 层掩蔽膜材料掩蔽的部分去掉， 从而在下层材料上 获得与掩蔽膜图形完全对应的图形。 岳瑞峰 清华大学微电子学研究所 微纳器件与系统研究室 1 2 刻蚀的品质因数 实际刻蚀剖面 刻蚀速率：单位时间刻蚀的厚度。 横向刻蚀速度 RL 纵向刻蚀速度 RV 选择比：不同材料的刻……