半导体存储器:DRAM与SRAM各霸一方(IBM System/370,1972)
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磁芯存储器实现了随机存取,但我们现在所说的RAM并不是指磁芯存储器,而是指半导体RAM芯片。与磁芯存储器相比,半导体RAM芯片体积更小、速度更快,因此能够取代磁芯存储器,成为集成电路时代主流的存储技术,并沿用至今。
“站在巨人肩膀上”是牛顿的一句名言,RAM芯片的成功离不开下面两位巨人:贝尔实验室的威廉·肖克利,他于1947年发明了晶体管;另一位巨人是德州仪器公司的杰克·基尔比,他于1959年发明了集成电路。
1968年,富有智慧和冒险精神的年轻工程师罗伯特·诺伊斯、高登·摩尔和安迪·葛鲁夫三人从仙童公司跳槽成立了Intel公司,推出了容量为1KB的DRAM存储芯片Intel 1103(图18),随后这个新成立的公司又推出了世界上第一颗微处理器芯片Intel 4004(1971年)。
Figure 18a surface of Intel 1103
Figure 18b inside Intel 1103
半导体RAM芯片分为DRAM(Dynamic RAM,动态RAM)和SRAM(Static RAM,静态RAM)两大类。同为RAM,为什么会有“动态”和“静态”的区别呢?这要从头说起了。
动态RAM芯片采用“1T+<?xml:namespace prefix = st1 ns = "urn:schemas-microsoft-com:office:smarttags" />1C”结构:由1只晶体管和1只电容器组成1个DRAM位元。作为具有商业价值的半导体存储器产品,Intel 1103对“1T+1C”结构进行改进,变成“2T+1C”结构(图19),其中Q1为行地址选择线、Q2为列地址选择线,当进行读写操作时,行、列选择线均为高电平,使Q1、Q2同时导通。如果写入数据为“1”,数据经Q2的源极到达漏极,并穿过Q1的源极和漏极,给电容Cs充电。如果写入数据“0”,则Cs放电。记忆在DRAM中的数据“1”需要Cs保持一定的电压值,而电荷泄漏会使电压值逐渐降低,因此DRAM电路需要一个刷新(refresh)电路,重复地DRAM进行读出和再写入,以使电容Cs泄放的电荷得到补充,才能保持记忆的信息不至于失效。因为存在刷新的过程,也才有了“动态”这个名称。刷新过程需要额外的刷新周期,因此对芯片速度会产生不利影响。
Figure 19 Compare SRAM with DRAM
在SRAM(Static RAM,静态RAM)器件中,存储元(1位)由6只晶体管组成双稳态电路的形式,其中Q1和Q2构成触发器,Q3和Q4分别作为Q1和Q2的负载电阻。Q1截止而Q2导通时的状态称为“1”。相反的状态称为“0”。 写入时,写入数据使读/写线呈相应电平(例如写“1”时,读/写线1为高电平,读/写线0为低电平),再使选择线为高电平,于是触发器被置为相应的状态(写“1”时,置为“1”状态,即Q1截止Q2导通)。读出时,置选择线为高电平,使Q5和Q6导通,从读/写线输出原存的信息。
虽然SRAM速度较快,但制造相同容量的SRAM比DRAM的成本贵数倍,所以SRAM通常只用作CPU内部的高速缓存(Cache),而内存条上使用的存储器芯片都是成本较低的DRAM芯片。
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