原创 再谈中国本土企业中的DFM应用之未来

随着深亚微米技术的发展，DFM(Design For Manufacture)可制造性设计概念的诞生已经有多年，并且在2006年美国第43届DAC(Design Automation Conference)上还曾有提出过DFM标准化的议题。迄今为止DFM依旧是深亚微米技术中最重要的课题，特别在中国，很多半导体制造商存在有如下几个问题：

(1)对于国外引进的半导体制造机器包括光刻和涂胶机的性能并没有全力发挥。
(2)虽然了解半导体材料固有缺陷但未必了解和掌握半导体制造机器流水线导入的工艺缺陷。
(3)众多的中国制造上都在使用并不甚了解的国外的库，该库的统计参数和本公司半导体流水线中所得到的效果是有距离的。
(4)基于工艺的布局设计经验不足。

因此，综上所述，中国很多半导体制造企业和设计公司是有必要好好利用DFM技术的。目前最主要的DFM技术有基于OPT(Optical Proximity Correction)和剔除各种缺陷(Defect Classification)，以提高芯片出产率的方法。

根据来之厂商经验的统计，众多的EDA设计商都推宗OPT和剔除缺陷双双结合的DFM解决方案。英飞凌技术公司的DFM应用结果表明："对一种典型的半导体产品来说，成品率提高1.7%的结果可以终身节约成本2.68兆美元"。

出产率(Yield)得到提高所带来的盈利结果真的不容小视！DFM=Design for $Money$　！