原创 国产光刻机与ASML的差距有多大、到达什么水准？

目前，芯片行业的主流的芯片是7nm以内，最近几年我国在芯片制造领域正逐渐缩小和国外的差距，但主要的设备和技术还是依赖国外的。

光刻机对芯片制造的重要性想必大家都非常清楚，它决定了芯片生产的成败，那么，目前国产最先进的光刻机已经到过什么水准了呢？

如果没有光刻机，芯片其实就是图纸，所以光刻机对芯片制造是非常重要的，是芯片制造过程中必不可少的设备。

放眼全球，能够生产出高级光刻机的没有几家公司，而且这些公司全部都在海外。我们生活中用到的手机、平板电脑里的芯片非常渺小，但是作用却非常的大，没有这些小小的新品，我们的手机和平板电脑只能称为“板砖”。所以，芯片的生产属于高科技技术，其制造难度非常大，目前上仅有少数几个企业能够生产这种高级光刻机。

目前能生产最顶级光刻机的只有荷兰的ASML公司，ASML拥有全球87.4%以上的光刻机订单，日本的尼康和佳能过去能占2%，但是目前由于种种原因，这两家日本企业出即将退出高级光刻机生产。

光刻机是目前最昂贵和最先进的芯片生产工具，单价可达到1.2亿美，按照行业惯例，如此稀少的设备自然是不会卖给中国，有再多钱也没用。

那中国有没有光刻机呢？其实是有的，但是差距非常大。

为什么这么说呢？

我国为了研制自己的光刻机，在2002年成立了上微电子(SEEE)，这时候已经足足落后荷兰ASML20多年了。直到今天，我们的光刻机技术也只有90nm可以量产，与ASML的差距太大了，现在荷兰ASML的光刻机可以实现7nm的工艺，每台售价1.2亿美元，还有很多厂商排着队买，供不应求。

我国在2002为了研制光刻机成立了上微电子(SEEE)，这个时间足足落后荷兰ASML20多年。而且目前我国的光刻机目前只达到90nm，与国外的水平相差太远。毕竟现在荷兰的Asml的光刻机已经实现了

近几年，中国对高科技的人力和财力投资大大增加，国产光刻机与荷兰ASML的差距也变的越来越小，目前我国已经研制出能够利用紫外线光源实现22nm分辨率的光刻机，以前这种高科技技术一直掌握在 他国手中。

这台国产光刻机的出现打破了多年来国外技术的封锁，在我国研制出来之后，此前一直不愿意向我国企业出售相关技术的公司也一反常态，就连荷兰的ASML公司的态度也有了很大的改变，被迫向中国出售高级光刻机，并计划在中国成立多家ASML的子公司。

按照这各发展趋势，我们相信，迟早有一天国产光刻机的技术会达到世界顶级水平。