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苏州汶颢微流控
2024-7-22 13:32
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英特尔是如何实现玻璃基板的？
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在 去 年 9月，英特尔宣布率先推出用于下一代先进封装的玻璃基板，并计划在未来几年内向市场提供完整的解决方案，从而使单个封装内的晶体管数量不断增加， ...
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苏州汶颢微流控
2024-7-19 11:16
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玻璃基电路板的蚀刻和侧蚀技术
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在对显示面板和玻璃基板减薄蚀刻主要是指通过一定配比混酸等蚀刻液对液晶面板和玻璃基板等（二氧化硅）玻璃材质基板进行化学腐蚀。本文所摘选信息虽不是专门介 ...
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苏州汶颢微流控
2024-7-16 11:45
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低成本聚合物微流控芯片加工技术
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范一强， 王洪亮， 张亚军 (北京化工大学 机电工程学院,北京 100029) 引 言 微流控技术最初源自于微机电系统 (micro-electro-mechanical system,MEMS) ...
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苏州汶颢微流控
2024-7-15 11:14
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半导体核心材料：光刻胶
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一、光刻胶定义与分类 光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、 X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂 ...
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苏州汶颢微流控
2024-7-11 11:42
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光刻胶涂覆工艺—旋涂
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为了确保光刻工艺的可重复性、可靠性和可接受性，必须在基板表面上均匀涂覆光刻胶。光刻胶通常分散在溶剂或水溶液中，是一种高粘度材料。根据工艺要求，有许多 ...
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苏州汶颢微流控
2024-7-8 11:43
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光刻胶的保存和老化失效
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我们在使用光刻胶的时候往往关注的重点是光刻胶的性能，但是有时候我们会忽略光刻胶的保存和寿命问题，其实这个问题应该在我们购买光刻胶前就应该提出并规 ...
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苏州汶颢微流控
2024-7-4 11:05
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微流控芯片的一般光刻工艺过程
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把设计掩膜模图形转移到晶圆上需要经过一整套复杂的涂胶、曝光、显影、刻蚀等工艺过程，这一过程大体可以分为以下 11个步骤，如下图1 所示： 图 1 一般光 ...
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苏州汶颢微流控
2024-7-3 11:09
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光刻胶后烘技术
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后烘是指（ post exposure bake-PEB）是指在曝光之后的光刻胶膜的烘烤过程。由于光刻胶膜还未显影，也就是说还未闭合，PEB也可以在高于光刻胶软化温度的情况下 ...
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苏州汶颢微流控
2024-7-2 11:31
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光刻胶显影技术
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显影是在曝光后的重要步骤，利用曝光区域在化学性质上与未暴光的区域不同，在特定的化学溶液中选择性的保留曝光区域（负胶）或者未曝光区域（正胶）的过程 ...
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苏州汶颢微流控
2024-7-1 13:46
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光刻胶的硬烘烤技术
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根据光刻胶的应用工艺，我们可以采用适当的方法对已显影的光刻胶结构进行处理以提高其化学或物理稳定性。通常我们可以采用烘烤步骤来实现整个光刻胶结构的 ...
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苏州汶颢微流控
2024-6-28 09:40
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光刻前衬底如何清洗?
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我们通常购买的光刻胶衬底往往会伴随着加工运输等环节不可避免的含有其他化学杂质、微粒污染物、吸附的水汽等，这些物质的存在都会影响光刻的过程以及图案的质 ...
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苏州汶颢微流控
2024-6-27 10:21
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涂胶时发现衬底（or部分）涂不上胶怎么回事？
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光刻胶润湿性 润湿性 /粘附性差的衬底(在贵金属或未充分清洁的基材上，在用HF-dip处理的二氧化硅基材上，在不完全去除二氧化硅的情况下，或在环境空气湿 ...
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苏州汶颢微流控
2024-6-26 11:38
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光刻胶的浸涂工艺
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如果要涂覆的衬底的类型或尺寸既不适合旋涂也不适合喷涂，或者对单衬底上消耗光刻胶成本有严格要求的情况下， 通常可考虑使用浸涂工艺 。 本文将介绍浸涂工 ...
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苏州汶颢微流控
2024-6-25 13:19
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微流控芯片制造工艺（下）
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2.2 投影式曝光 为了克服遮蔽式曝光的掩模损伤问题，出现了投影式曝光设备： 此类设备可将掩模上的图形投影到距离掩模几厘米远的涂有光刻胶的晶 ...
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苏州汶颢微流控
2024-6-24 11:32
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微流控芯片制造工艺（上）
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光刻就是将掩膜上的几何图形转移到涂在半导体晶圆表面的光敏薄层材料（光刻胶）上的工艺过程。为了产生电路图形，还需要再一次把光刻胶上的图形转移到光刻 ...
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