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精密半导体参数测试解决方案 直播时间： 01月08日 10:00
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苏州汶颢微流控 2024-7-2 11:31
- 光刻胶显影技术
- 显影是在曝光后的重要步骤，利用曝光区域在化学性质上与未暴光的区域不同，在特定的化学溶液中选择性的保留曝光区域（负胶）或者未曝光区域（正胶）的过程 ...
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- 光刻胶的硬烘烤技术
- 根据光刻胶的应用工艺，我们可以采用适当的方法对已显影的光刻胶结构进行处理以提高其化学或物理稳定性。通常我们可以采用烘烤步骤来实现整个光刻胶结构的 ...
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- 光刻前衬底如何清洗?
- 我们通常购买的光刻胶衬底往往会伴随着加工运输等环节不可避免的含有其他化学杂质、微粒污染物、吸附的水汽等，这些物质的存在都会影响光刻的过程以及图案的质 ...
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- 涂胶时发现衬底（or部分）涂不上胶怎么回事？
- 光刻胶润湿性 润湿性 /粘附性差的衬底(在贵金属或未充分清洁的基材上，在用HF-dip处理的二氧化硅基材上，在不完全去除二氧化硅的情况下，或在环境空气湿 ...
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- 光刻胶的浸涂工艺
- 如果要涂覆的衬底的类型或尺寸既不适合旋涂也不适合喷涂，或者对单衬底上消耗光刻胶成本有严格要求的情况下， 通常可考虑使用浸涂工艺 。 本文将介绍浸涂工 ...
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- 微流控芯片制造工艺（下）
- 2.2 投影式曝光 为了克服遮蔽式曝光的掩模损伤问题，出现了投影式曝光设备： 此类设备可将掩模上的图形投影到距离掩模几厘米远的涂有光刻胶的晶 ...
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- 微流控芯片制造工艺（上）
- 光刻就是将掩膜上的几何图形转移到涂在半导体晶圆表面的光敏薄层材料（光刻胶）上的工艺过程。为了产生电路图形，还需要再一次把光刻胶上的图形转移到光刻 ...
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- 光刻胶烘烤过程及对显影的影响
- 前烘（软烘） 在前面 “一般光刻过程”文章中我们概要介绍过光刻的一般过程，其中就介绍过前烘（软烘）的相关知识，前烘是光刻工艺中比较简单的工艺过 ...
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- 微气泡对光刻胶层的影响
- 微气泡是一种很有前途的环保光刻胶去除方法的候选方法。已经证明，臭氧微气泡可以去除硅片上的光刻剂，即使被高剂量的离子注入破坏了光刻剂。但重大挑战仍 ...
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- 聚合物制作微流控芯片有何注意事项?
- 在这篇文章中，小编将为大家带来微流控芯片的相关报道。如果你对本文即将要讲解的内容存在一定兴趣，不妨继续往下阅读哦。 一、聚合物制作微流控芯片注 ...
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- 制备复合液滴的微尺度流动方法
- ３ 微流控芯片装置 微流控芯片装置主要是通过设计和加工一定构型的微管道对微量液体进行分析和操控从而实现特定功能和用途． 近年来 随着微纳加工技 ...
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- 真空干燥箱的工作原理
- 真空干燥炉，也称为真空干燥机或真空炉，用于执行干燥操作，该干燥操作通常包括从材料中去除水分。在医疗行业中，真空干燥用于加速从较厚的乳胶导管中去除 ...
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- 匀胶机旋涂仪常见问题及维护措施
- 旋涂仪匀胶机在日常使用过程是需要进行细致维护的，当然难免也会遇到一些故障问题，下面分享几个常见的故障问题以及如何维护，包括基材污染、颗粒污染、化学污 ...
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- 国内外光刻胶发展及应用探讨
- 微反应器连续合成氨基乙酸工艺研究 氨基乙酸是一种结构最为简单的非必须氨基酸 ,又名甘氨酸、胶糖。氨基乙酸作为一种重要的基础性精细化工中间体,可广泛应 ...
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- 国内外光刻胶发展及应用探讨
- 光刻胶是由感光树脂、增感剂和溶剂为主要成分的一种对光特别敏感的混合液体，别名为 “光致抗蚀剂”。光刻胶对光非常敏感，透过光线，其化学特性就会发生变化， ...
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