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2012-11-15 21:26
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MOS管主要参数: http://www.elecfans.com/article/88/131/sz/2009/2009040645141.html 1.开启电压V T ·开启电压(又称阈值电压):使得源极S和漏极D之间开始形成导电沟道所需的栅极电压; ·标准的N沟道MOS管,V T 约为3~6V; ·通过工艺上的改进,可以使MOS管的V T 值降到2~3V。 2. 直流输入电阻R GS ·即在栅源极之间加的电压与栅极电流之比 ·这一特性有时以流过栅极的栅流表示 ·MOS管的R GS 可以很容易地超过1010Ω。 3. 漏源击穿电压BV DS ·在V GS =0(增强型)的条件下 ,在增加漏源电压过程中使I D 开始剧增时的V DS 称为漏源击穿电压BV DS ·I D 剧增的原因有下列两个方面: (1)漏极附近耗尽层的雪崩击穿 (2)漏源极间的穿通击穿 ·有些MOS管中,其沟道长度较短,不断增加V DS 会使漏区的耗尽层一直扩展到源区,使沟道长度为零,即产生漏源间的穿通,穿通后 ,源区中的多数载流子,将直接受耗尽层电场的吸引,到达漏区,产生大的I D 4. 栅源击穿电压BV GS ·在增加栅源电压过程中,使栅极电流I G 由零开始剧增时的V GS ,称为栅源击穿电压BV GS 。 5. 低频跨导g m ·在V DS 为某一固定数值的条件下 ,漏极电流的微变量和引起这个变化的栅源电压微变量之比称为跨导 ·g m 反映了栅源电压对漏极电流的控制能力 ·是表征MOS管放大能力的一个重要参数 ·一般在十分之几至几mA/V的范围内 6. 导通电阻R ON ·导通电阻R ON 说明了V DS 对I D 的影响 ,是漏极特性某一点切线的斜率的倒数 ·在饱和区,I D 几乎不随V DS 改变,R ON 的数值很大 ,一般在几十千欧到几百千欧之间 ·由于在数字电路中 ,MOS管导通时经常工作在V DS =0的状态下,所以这时的导通电阻R ON 可用原点的R ON 来近似 ·对一般的MOS管而言,R ON 的数值在几百欧以内 7. 极间电容 ·三个电极之间都存在着极间电容:栅源电容C GS 、栅漏电容C GD 和漏源电容CDS ·C GS 和C GD 约为1~3pF ·C DS 约在0.1~1pF之间 8. 低频噪声系数NF ·噪声是由管子内部载流子运动的不规则性所引起的 ·由于它的存在,就使一个放大器即便在没有信号输人时,在输 出端也出现不规则的电压或电流变化 ·噪声性能的大小通常用噪声系数NF来表示,它的单位为分贝(dB) ·这个数值越小,代表管子所产生的噪声越小 ·低频噪声系数是在低频范围内测出的噪声系数 ·场效应管的噪声系数约为几个分贝,它比双极性三极管的要小