前言
随着电子行业朝高端化发展,作为支撑其主体的PCB也随之发展,表现为对生产技术要求越来越高,对生产设备要求越来越苛刻,对阻抗控制要求越来越严格等。因此,作为对阻抗控制影响最为重要的介质层厚度控制就被突显出来,层间介质层公差一般按10%控制,实际上阻抗板件,尤其是介质层设计小于4mil的阻抗板层间需要高很多的公差要求。然而,PCB层间介质控制又是一个涉及面广且较为系统的工程,它不仅涉及到工程设计、来料控制,而且还涉及到层压等生产工序。本文运用实验的方法,从不同层压参数对介质层厚度的影响,以及介质和阻抗分布等方面入手,探讨了阻抗板介质厚度分布,为阻抗板件阻抗设计和控制提供参考。
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实验
2.1 实验物料
采用某公司普通T g板料和半固化片1080、2116、7628和7628H进行压合。
2.2 不同层压参数对介质厚度的影响
取半固化片1080、2116、7628H,按图1叠层结构,分别采用表1 快升温慢加压力和采用慢升温快加压力的两组参数压合;
2.3 压合过程半固化片流胶状况
取半固化片1080*2、2116*2、7628H,分别在其表面用油性笔做好位置标记,如图2,按图3叠层结构压合试验样品。
2.4 阻抗值在板面上的分布状况
取半固化片1080*2、2116*2、7628+1080按图4叠层结构压合,在板面整面设计上内外层阻抗线(阻抗线宽线距根据理论介质厚度不同分别模拟设计)如图5,生产至外层蚀刻后测量阻抗值;
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结果和讨论
3.1 不同层压参数对介质厚度的影响
两组压合参数压合后半固化片厚度数据如下表
应用两种不同的层压程序,拟合得到的半固化片理论厚度差异很小。这是因为热压时,树脂经历了由B-阶段---粘弹态---粘流态---粘弹态---C-阶段的层压转变过程,树脂单体交联反应,树脂聚合后的密度主要由材料配方决定,不同的层压参数(前提是温度压力条件满足树脂正常结晶需要)对其没有影响。由树脂平均厚度= 质量/密度/面积可知,平均厚度没有变化。
可认为不同层压程序对半固化片介质厚度差异没有影响。
3.2 板面介质分布状况
压合前后树脂流动的移动状况,如下图,
从表5可知,在板边与板内介质层差异性方面,层压后板边介质层厚度相对较薄,距离板边位置越近,与板中间厚度相差越大,并且不同含胶量板达到稳定厚度离的板边距离不一致,但基本在板边4CM处均可以达到稳定,可认为4CM是流胶区域的最大值。
3.3 阻抗值在板面上的分布状况
从表6、图7、图8数据可知,板件介质厚度及阻抗值均从板边向板内逐渐增大,直到离板边3.5cm,阻抗值达到稳定。
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结论
(1)不同压力温度条件的层压参数对介质厚度没有明显影响;
(2)层压后板边介质层厚度相对较薄,距离板边位置越近,与板中间厚度相差越大,并且不同含胶量结构达到稳定厚度离的板边距离不一致,但基本在板边4CM处均可以达到稳定,可认为4CM是流胶区域的最大值;
(3)板件阻抗值从板边向板内逐渐增大,在离板边3.5cm以内的中心区域,阻抗值基本稳定一致,所以,阻抗线设计位置需要距离板边至少3.5cm才有代表板件阻抗值的意义。当成型线离板边过近,不足以保证阻抗线距离板边大于3.5cm时,可以把阻抗条设计于拼板中间。
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