原创 总金额近7亿元！彤程新材加码ArF高端光刻胶

8月16日消息，彤程新材发布2021年半年度报告，并且使用自筹资金6.9853亿元，投资建设“ArF高端光刻胶研发平台建设项目”。

公司上半年实现营业收入11.72亿元，同比增长24.30%;实现归属于上市公司股东的净利润2.37亿元，同比增长31.72%；实现归属于上市公司股东的扣除非经常性损益的净利润1.87亿元，同比增长7.31%。并且使用自筹资金6.9853亿元，投资建设“ArF高端光刻胶研发平台建设项目”，项目预计于2023年末建设完成。

在半导体光刻胶的研发、生产及销售方面，公司旗下半导体光刻胶生产企业--北京科华，产品应用领域涵盖集成电路（IC）、发光二极管（LED）、分立器件、先进封装、微机电系统（MEMS） 等，产品覆盖 KrF（248nm）、G/I 线（含宽谱）、Lift-off 工艺使用的负胶，用于分立器件的BN、BP 系列正负性胶等类型。其中 G 线光刻胶市场占有率超过 60%；I 线光刻胶和 KrF 光刻胶是国内 8-12 寸集成电路产线主要的本土供应商。公司能够满足主流半导体公司在8 寸、12 寸线的需求， 并持续推进 KrF、高分辨 I 线光刻胶等高端光刻胶的国产化替代进程。

在显示面板光刻胶方面，公司旗下显示面板光刻胶生产企业--北旭电子是中国大陆第一家 TFT-LCDArray 光刻胶本土生产商，也是国内最大的液晶正性光刻胶本土供应商，其产品在国内最大面板客户京东方的占有率超 45%，国内市场占有率近 20%，全球市场占有率约 9%，随着积极推进国内面板其它头部客户导入测试以及 Halftone 产品的突破，市场份额还将进一步提升。

另外，彤程新材发布公告表示，根据公司发展战略，进一步深化公司在电子材料领域的业务布局，弥补国内光刻胶技术与全球先进水平的差距，研究ArF光刻胶，特别是193nm湿法光刻胶的工业化生产技术，确定193nm光刻胶工程化放大技术、标准的生产流程及质量管控体系，研发生产光刻胶高端产品。

公司从实际生产经营需求出发，决定通过公司全资子公司-上海彤程电子材料有限公司（以下简称“彤程电子”）在上海化学工业区内使用自筹资金人民币6.9853亿元，投资建设“ArF高端光刻胶研发平台建设项目”，项目预计于2023年末建设完成。

图源：彤程新材公告截图

据其介绍，ArF光刻胶工业化生产开发主要涉及的内容包括：

（1）193nm光刻胶生产过程中的微小颗粒的控制技术，研究0.15μm及以下颗粒在精细化生产过程中的控制技术；

（2）193nm光刻胶中痕量金属离子杂质的控制技术，从原料、生产设备及生产工艺等环节入手研究ppb/ppt级别的金属离子含量控制技术,以及国产化原料及装备的可替代性；

（3）对光刻胶的作用机理进行研究，通过对缺陷的检测发现及成因分析，提高193nm光刻胶生产批次稳定性控制技术。

其强调 ：193nm(ArF)高端光刻胶产品的开发技术难度大、质量要求高，产品基本掌握在国外专业厂商手中。本项目计划引进高端专业技术团队，负责关键配方研制、关键应用技术开发、质量管控及产品生产。同时充分利用公司多年在集成电路配方型功能性化学材料开发和应用方面所积累和拥有的技术经验，与引进技术团队充分配合协作，确保本项目开发成功。

本项目建设周期为2.5年，预计于2023年12月完成研发平台建设，项目预计于2023年末建设完成。目前，项目环境影响评价已完成。

彤程新材表示，该投资事项已经公司董事会审议通过，但鉴于公司最近12个月通过彤程电子进行相关项目的投资金额达12.6841亿元，累计金额达到公司最近一期经审计净资产的50%以上，根据《上海证券交易所股票上市规则》及《公司章程》等相关规定，本次对外投资事项尚需提交股东大会审议批准。

微信公众号：微电子制造