65nm技术开发的FeRAM材料存储能力高达256Mb |
作者:Jim Harrison 日期:2006-10-1 来源:今日電子 |
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东京理工大学和富士通微电子已经联合开发出用于新一代非易失性铁电随机存储器(Ferroelectric Random Access Memory,FeRAM)的材料和工艺技术。 这种改进的铋、铁、氧元素的合成材料(BiFeO3或BFO)能使FeRAM设备的数据存储容量提高到现在容量的五倍。 采用65nm工艺技术就可以将存储容量至少提高到256Mb,工作在1.3V电压下的功耗是现有产品的一半。 随着对BFO的深入开发,可以实现256Mb的大容量FeRAM,这种FeRAM与现有的1Mb产品相比,密度将会高出两个等级。密度的提高使得FeRAM的应用将在新的领域(如快速启动,它使计算机在开机后能够立刻使用)得到扩展,而不再仅限于在安全应用领域。FeRAM还可以用于电子纸设备,该设备能让用户浏览和阅读传统上印刷在纸张上的大量信息。欲了解更多信息,请访问http://us.fujitsu.com。 |
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