原创 MOSCAP结构之二:制作流程(3)

2009-8-11 04:06 3992 6 6 分类: MCU/ 嵌入式
9d:经过了一夜时间,光刻胶变得很硬,所以将晶圆片放入丙酮后,又使用了超声波,才很好地将光刻胶除去。

9e:使用偏振光测量仪进行测量。

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铝层的厚度(片2中links出现了测量错误)

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剩余氧化层的厚度

经分析,片2最近期望值。

F:煅化

10:3小时;400度
目的是使各层结合更紧密,也使蒸汽堆积的铝层更牢靠。


到此为止,完成了MOSCAP结构在无尘室中的制作过程。



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