原创 TEKNEK 推出 NANOCLEEN

 2009-9-22 10:33  1435 7 7 分类: EDA/ IP/ 设计与制造


作者：时间：2009-03-14 来源:

接触式清洁科技全球领导者Teknek，推出电子行业最先进接触式清洁系统。经过五年研发，Nanocleen 宣告了一项具有划时代的先进污染及静电控制接触式清洁技术。 Teknek 从20年前发明接触式清洁以来，一直在研发上保持领先。Tenkek清洁机已有15,500台装设在全世界用户厂内，帮助用户增加生产效益、减少废品及削减停机时间。推估Teknek科技已为用户节省超过20亿美金。 Nanocleen 系统的核心是一支特殊配方制成的滚轮及粘尘纸卷。Nanocleen提供了一些超越传统接触式清洁系统的优点，包括：其特殊聚合材质滚轮可清除更微小异物 – 小至25nm(纳米)。当前世界上所有其它的清洁设备供应商只能处理到微米级。因为电子线路及组件已日趋细微，使得污染冲击相对变大。Nanocleen超高性能，可比其它接触式清洁系统多清除25~50%异物量。除了清除污染外，这种滚轮也可散除静电。其静电消除性能，相较于传统接触式清洁系统，可得满分10分。敏感的电子组件易受静电影响，并被生产制程中出现静电伤害。其滚轮及粘尘纸卷100% 无硅。传统滚轮及粘尘纸卷皆含有硅成分，对生产线有污染风。 Nanocleen系统可安装在旧型或新型Teknek清洁机以及其它制造厂的清洁机上 (使用选购之升级套件，毋需重新投资硬件) 。 Teknek总经理史蒂芬 * 米奇说：「Teknek对Nanocleen的新技术已投入巨大的研发资源于以及广泛用户处应用测试。」他补充：「Nanocleen在未来的几年必将成为接触式清洁的标准。市场上无可与其匹敌者，由其提供的空前高水平的污染清除及静电消除性能，在生产效益改善、废品减量方面，将为用户提供显著的竞争优势。」