用户1628921
文章：8 阅读：25189 评论：50 赞：180
好友 私信 个人主页

原创 集成电路布图设计侵权的司法鉴定

2012-11-19 08:45 1327 27 30 分类: 消费电子

文章标题：集成电路布图设计侵权的司法鉴定

具体请查看并下载附件。

侵权鉴定 集成电路专利 抄板 布图设计
写原创有奖励！2025面包板原创奖励正在进行中
PARTNER CONTENT
换一换> 更多>

文章评论（3条评论）

登录后参与讨论

用户1553703 2012-11-25 22:39

感谢分享
回复

用户1602177 2012-11-22 16:45

感谢博主分享~~做设计的工程师们应该了解一下
回复

用户1277994 2012-11-19 18:07

很高兴看到博主的分析与分享。
回复
相关推荐阅读
用户1628921 2012-11-20 10:40
45nm以下制造工艺介绍
       根据摩尔定理，IC上可容纳的晶体管数目，约每隔18个月便会增加一倍，性能也将提升一倍。但随着IC上晶体管的集成度越来越高，在45nm节点技术中，MOS管的栅介质厚度减小到了1.2nm...
用户1628921 2012-08-07 16:51
芯愿景联合闳康科技8月下旬举办成都、西安技术研讨会，欢迎广大IC设计工程师参加。
        为帮助企业全面了解集成电路逆向设计，设计验证和失效分析的最新技术进展，促进集成电路产业发展、成都高新区技术创新服务中心、西安集成电路产业化发展中心联合闳康科技有限公司、北京芯愿景软...
用户1628921 2012-02-01 16:12
芯片图像采集技术（1）
        高质量的芯片图像是进行芯片分析的基础，随着芯片特征尺寸减小、规模增大、金属层数增多，芯片反向分析时对于芯片图像的完整性和清晰度的要求也越来越高。         芯片图像库的建立...
用户1628921 2012-01-17 10:22
集成电路反向技术-芯片剥层方法
        芯片剥层分为化学反应法去层次和等离子刻蚀去层次两种方法。下面对这两种方法进行简单描述。           化学反应法去层也叫湿法刻蚀，是半导体工艺发展过程中较早被使用的技...
用户1628921 2011-11-10 10:10
集成电路反向分析的争议性
        反向分析是集成电路产业颇具争议的一项技术，其争议性主要源于反向分析技术的不当使用可能会对知识产权产生侵害。然而，事实上反向分析技术在国外恰恰是作为一种保护集成电路知识产权的技术而被...
用户1628921
文章：8 阅读：25189 评论：50 赞：180
好友 私信 个人主页
EE直播间
更多
在线研讨会
更多
我要评论
3
27
关闭 站长推荐上一条 /1 下一条
  • 帖子
  • 博文