1)高压和超高压方向。希望器件能有较高的耐压,但仍有较低的通态电阻或通态压降。由于这种类型的器件通常有较厚的低掺杂外延层以承受高耐压,所以外延层漂移电阻在通态电阻中占有决定性的地位(见表1)。这类器件最为典型的就是超级结MOSFET,也称为CoolMOS。这方面另有专文叙述。
2)低压和超低压方向。对器件承受耐压能力要求相对不高,但是要求器件有极低的通态电阻和较高的开关速度,这是目前MOSFET 发展更为主导的方向。这类器件由于耐压要求不是很高,所以外延层可以做的较薄或者掺杂浓度可以较高,因此漂移区电阻所占比例减小,而沟道电阻对通态电阻产生的影响明显增大(见表1)。为实现器件极低的通态电阻,要求每个MOSFET 由更多更小的原胞组成,这就要求其工艺精度必须向亚微米甚至深亚微米方向发展。此类器件最典型的应用就是在4C 产业中,即Communication,Computer,Consumer,Car(通信,电脑,消费电器,汽车)。
近些年来,随着4C 产业的蓬勃发展,激烈的市场竞争要求产品向高性能和超小型化发展,这对用于其中的微处理器提出了严格的要求。新一代微处理器的工作频率已经由MHz级转向GHz 级,工作电压降到1.3V 左右,工作电流高达20A。对于为其供电的降压型电源电路来说,需要其具有更高的效率,而且电路上每部分的功耗都尽可能的小。以为最新型微处理器供电的单相同步降压型变换器为例(见下图),其典型输入电压为7.5V 到21V,输出电压约为1.3V,电路中控制和整流用的功率器件普遍采用30V 的MOSFET。电路中Q1 为高侧MOSFET,也称为控制管(ControlFET),其通/ 断时间比决定降压量。由于高侧MOSFET 只是在很少的时间内导通,所以其开关损耗远大于传导损耗。这样,降低器件开关损耗比降低通态电阻更为重要。在开关过程中,MOSFET 需要承受一定的电压和传输电流,这个电压和电流的乘积决定了MOSFET 的峰值功率损耗,因此开关时间越短功率损耗越小,所以要求Q1 必须有较高的开关速度。在选择高侧MOSFET 时,应选择具有较低栅极电荷和栅-漏电容的器件,这两个指标比低通态电阻更为重要。电路中Q2 为低侧MOSFET,也称为同步整流管(SyncFET),它在Q1 关断期间为电感续流。由于转换器要求低侧MOSFET 在大部分时间导通,所以其传导损耗远高于开关损耗。因此要求低侧MOSFET 必须拥有极低的通态电阻,以减小导通状态下的静态功耗。
图 为微处理器供电的单向同步降压型 Buck电路
对于高侧和低侧功率MOSFET 来说,有两个参数极为重要。一个是漏源通态比电阻(specific on-resistance)Rds(on),另一个是单位面积栅极电荷Qg。减小Rds(on)有利于减小器件的通态功耗,降低Qg 有利于减小器件的动态功耗。但是,现在很难对两个参数同时进行大幅度的优化,这是因为以现有的工艺,优化其中的任何一个参数必将对另一个参数带来一定不利的影响。为了准确比较和评价功率器件的性能,现在公认使用优值FOM(Figure ofMerit,FOM=Rds(on)×Qg)这一参数作为衡量器件性能的指标。由于漏源通态比电阻与单位面积电荷的乘积消除了芯片面积,所以优值FOM 与芯片面积无关,因而适于对不同电流规格MOSFET 的性能先进性进行统一比较。目前功率MOSFET 的发展方向就是努力改善器件的优值,形成漏源通态比电阻和单位面积栅极电荷的良好折衷。
虽然高侧和低侧功率MOSFET 均要求有较低的FOM,但是它们对于器件参数的要求是有所偏重的。高侧功率MOSFET 由于需要有较高的开关速度所以着重要求单位面积栅极电荷Qg 较低。而低侧功率MOSFET 由于需要减小静态功耗所以着重要求器件漏源通态比电阻Rds(on)较低。近些年国际上众多公司和学者都在针对进一步减小Qg 和Rds(on)进行研究,有大量相关的专利和论文。本篇主要针对用于低侧的超低压MOSFET 对国际上用以改善Rds(on)的新工艺和新方法做一简要的阐述。
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