原创 DNP-18纳米样板新方法

    大日本印刷，简称DNP，已经开发出一种制造样板的新方法，新方法符合18nm设计规则，可以用在纳米印刷线路上。下一代在晶圆上制作线路图案的纳米印刷技术中，图案模板蚀刻在石英玻璃上，再压入晶圆上涂的树脂上，将图案转印出来。

目前，光刻法是目前用在晶圆上转印电路图案的办法，但根据预计，半导体工业在今后几年开始制造线路间距为32nm芯片的时候，将迁移到纳米印刷技术。要制造模板，在石英玻璃上绘制图案将采用电子束，蚀刻出模具的形状。直到现在，因为用电子束绘制的线路易于重迭，还很难用这种工艺制作18nm图案。

为了解决这个问题，DNP制作了一个更紧密的电子束光点，调整了光束的强度和曝光量。这还起到了优化制作工艺，提高玻璃蚀刻精度的作用。DNP期望8年后，18nm纳米印刷技术可以应用在实际用途上。

既然制作范本的方法已经存在，该公司将提高加工技术，绘制出更精密、准确的图案。