CH4在不同pH电解液中的Tafel曲线。(a) RHE标度下CH4分电流密度随电压的变化规律;(b) pH = 9.0条件下CH4的Tafel斜率随电压的变化规律;(c, d) CH4生成的决速步示意图。 在这项工作中,团队使用了最近开发的标准三电极体系的新式气体扩散型电解池,该体系不仅可以消除CO传质影响,又能够精确调控电压。文章在较宽电解液pH范围内(pH 7~14)系统地确定了生成C2+产物和甲烷的Tafel斜率和反应级数,实现了更加可信的动力学研究。 基于反应活性数据,团队发现,所有的C2+产物都表现出相似的Tafel斜率(~118 mV dec-1),在SHE(相对标准氢电极)标度下,不同电解质pH下测定的速率基本重叠,意味着所有C2+产物的生成速率受第一次电子转移过程的限制,且在决速步以及决速步之前的反应步骤中不涉及质子的转移。原位表面增强的原位红外(图1)和拉曼光谱结果表明,磷酸盐在反应电压下有特定的吸附,导致CO的覆盖率降低,进而降低了CORR速率,Cu表面暴露于碱性电解质中也会引起表面物种和结构的不可逆变化。根据测得的Tafel斜率和CO反应级数(图2),在弱碱性(711)电解质中,CH4的生成分别受到了CO的质子耦合电子转移步骤和CO的化学加氢步骤的限制。与C2+产物相比,在相对标准氢电极和可逆氢电极标度下,CH4的生成速率均会随电解液pH的变化而改变。同时通过拟合动力学数据发现,C2+产物和CH4的CO吸附常数差别较大,证明了这两种产物形成于不同的活性位点上。 该研究以“铜表面上一氧化碳电化学还原过程的电动力学和原位光谱研究”(Electrokinetic and in situ spectroscopic investigations of CO electrochemical reduction on copper)为题,于6月1日发表在《自然·通讯》(Nature Communications)期刊上。清华大学化学工程系2017级博士生李晶为论文的第一作者,论文共同通讯作者为清华大学化学工程系陆奇副教授、北京大学化学与分子工程学院徐冰君教授。
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