原创 光刻胶合成化学品解决方案

光刻胶是半导体制造中的关键材料，其性能直接影响芯片的质量和产量。为满足先进制程对光刻胶的高要求，提供全面的光刻胶合成化学品解决方案至关重要。

1. 高纯度原材料供应:

• 光刻胶树脂: 提供多种树脂，如酚醛树脂、丙烯酸树脂等，满足不同光刻胶需求。
• 光敏剂: 供应高纯度光敏剂，如重氮萘醌、鎓盐等，确保光刻胶的光敏性能。
• 添加剂: 提供稳定剂、表面活性剂等，提升光刻胶的稳定性和涂布性能。

2. 定制化合成服务:

• 分子设计: 根据客户需求，设计新型光刻胶树脂和光敏剂，提升分辨率、灵敏度和抗刻蚀性。
• 工艺优化: 优化合成工艺，提高产品纯度和收率，降低成本。
• 小试与中试: 提供小试和中试服务，加速产品开发。

3. 严格的质量控制:

• 先进分析: 使用 HPLC、GC-MS 等设备，确保产品的高纯度和一致性。
• 严格检测: 按照半导体行业标准进行检测，确保产品符合要求。
• 质量追溯: 建立完善的质量追溯体系，保障产品质量稳定。

4. 技术支持与服务:

• 技术咨询: 提供光刻胶选型、工艺优化等咨询服务。
• 应用支持: 协助客户解决光刻胶使用中的问题。
• 培训服务: 提供光刻胶相关培训，提升客户技术水平。