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揭秘:为何流片越来越困难?
资料介绍

有一个趋势非常明显……流片变得越来越困难,需要的时间也越来越长。作为日益壮大的创新性早期设计验证技术套件的一部分,Calibre nmLVS-Recon 工具使设计团队能够快速检查“存在问题”和不成熟的设计,以便更快、更早地发现并修复具有重大影响的电路错误,从而在总体上缩短流片排程和上市时间。

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