在制造集成电路时，我们过去总是制作具有曼哈顿和 45 度边的掩膜。例如，将接触 孔设计为方形，即使实际印制在晶圆上的形状是圆形。事实证明，要印制这样一个圆 形，适当的掩膜图形实际上应当是圆形，即最终的工艺窗口最大化曲线掩膜形状。曲 线掩膜现在可以使用多光束掩膜写入机，而用于处理曲线数据的 EDA 工具也开始提 供线上版本。

本文讨论了曲线 (CL) 掩膜的优势，以及包括逆光刻技术在内的电子设计自动化 (EDA) 工具如何实现这种新一代的 IC 制造。