原创 英特尔CEO：EUV光刻技术或助力芯片突破摩尔定律

据美国科技博客BusinessInsider报道，在近50年的科技发展中，技术变革的速度一直遵循着摩尔定律。一次又一次的质疑声中，英特尔坚定不移地延续着摩尔定律的魔力。 摩尔定律是由英特尔联合创始人Gordon Moore提出，内容为：当价格不变时，集成电路上可容纳的晶体管数目，约每隔18个月便会增加一倍，性能也将提升一倍。换言之，每一美元所能买到的电脑性能，将每隔18个月翻两倍以上。这一定律揭示了信息技术进步的速度。 在几十年来，芯片技术得以快速变革和发展，变得更加强大，节省了更多的空间和资源，这也使得电脑的速度成倍地变快、体积成倍地变小。 但有些物理专家表示，除非有某种技术的突破才能突破摩尔定律的限制。今天，英特尔等芯片厂商通过量子力学技术能够在尖端芯片上摆放数十亿个微处理器。 摩尔定律的延续已成为一个巨大挑战，英特尔CEO Brian Krzanich给出的解决方案是——一种新的技术extreme ultraviolet lithography(EUV，极紫外线光刻技术)，可以帮助英特尔继续做出更小、更快、更高效的芯片。不幸的是，这说起来容易做起来难。 荷兰微影设备大厂ASML在2009年就公布了EUV光刻技术，但一直未有显著的进展，为推动该技术的研发，在去年的夏天英特尔向其注资41亿美元。 虽然在芯片创新的路上存在无数的挑战和障碍，但是英特尔一直没有停止过自己的脚步：上月中旬，英特尔在IDF上展示了在PC上运行的14nm Broadwell CPU。日前，英特尔CEO称，由于生产问题，下一代Broadwell处理器将被推迟至明年发布。 另外，英特尔计划在2015年采用10 nm的晶体管，而到了2017年达到7 nm，这些都是出奇的小。相比较而言，人身上的血细胞是7000 nm，而一个DNA链为2.5 nm。 英特尔目前还未过多的谈论EUV光刻技术，可能涉及竞争的原因等，但是，如果该技术被得以大范围采用并推向市场，那么7nm芯片等都也将成为可能。 《电子技术设计》网站版权所有，谢绝转载