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采用Stratix V 管芯仪表克服高速 I/O 验证难题
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本文档讨论使用Altera 28-nm Stratix ® V 器件的管芯仪表功能(ODI) 来验证和调试高速I/O。依据摩尔定律,I/O 技术在速度和数据速率上每两到三年就会翻倍。随着I/O 速度和数据速率的提高,出现了新的验证和测试难题。本白皮书阐述验证高速链路所面临的难题,以及Altera 28-nm Stratix V ODI 技术是怎样克服这些难题的,还将介绍ODI 应用。 采用 Stratix V 管芯仪表克服高速 I/O 验证难题 WP-01152-1.0 白皮书 本文档讨论使用 Altera 28-nm Stratix V 器件的管芯仪表功能 (ODI) 来验证和调试 高速 I/O。依据摩尔定律,I/O 技术在速度和数据速率上每两到三年就会翻倍。随着 I/O 速度和数据速率的提高,出现了新的验证和测试难题。本白皮书阐述验证高速链路 所面临的难题,以及 Altera 28-nm Stratix V ODI 技术是怎样克服这些难题的,还将 介绍 ODI 应用。 引言 单个芯片集成了越来越多的晶体管,每一芯片现在可以实现更多的功能,性能也越来 越强。晶体管变得更小更快,逻辑门的速度也越来越快,开关速度不断提高……
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