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SYNCON新启航 2025-5-30 09:39
光刻胶剥离工具都有哪些及白光干涉仪在光刻图形的测量
引言 在半导体制造、微纳加工等领域,光刻胶剥离是光刻工艺的关键步骤。选择合适的剥离工具对高效去除光刻胶、保障基片质量至关重要。同时,精确测量 ...
SYNCON新启航 2025-5-26 09:23
纳米压印制备硅基 OLED 微型显示器的方法及白光干涉仪在光刻图形的测量
引言 硅基 OLED 微型显示器凭借高分辨率、高对比度等优势,在虚拟现实、增强现实等领域应用广泛。纳米压印技术为其制备提供了新方向,而精确测量光刻 ...
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