原创 EDIF文件格式

EDIF是电子设计交换格式（Electronic Design Interchange Format）的英文字头缩写。EDIF综合了多种格式中的最佳特性，1985年的EDIF100版本提供了门阵列、半导体集成电路设计和布线自动化交换信息的格式，而后的EDIF200版本是不同EDA厂家之间交换设计数据的标准格式。CAD框架标准解决的是不同EDA厂家工具集成和实时通信问题，EDIF格式解决的是用不同EDA厂家工具完成设计的数据交流问题。

EDIF的文件整体结构如下：


(edif name
       (status information)
       (design where-to-find-them)
       (external reference-libraries)
       (library name
         (technology defaults)
         (cell name
            (viewmap map)
            (view type name
                   (interface external)
                   (contents internal)
            )
         )
       )
)
由这个结构可见：EDIF文件包含一些列的库（libraries），每个库包含一系列的单元（cells），每个单元具有1个或多个视图（views）。
视图使用原理图（Schematic）、版图（layout）、行为（Behaviour）和文档（Document）等格式（View Type）来描述。每个视图具有一个接口（interface）和一个内容（contents），通过它们来清晰定义视图。Cell单元还通过（view map）属性和其他View视图相连。

完。

说到LPM（Library of Parameterized Modules），就一定要谈谈EDIF（Electronic Design Interchange Format）。EDIF文件是EDA厂商之间和EDA厂商与IC厂商之间传递设计信息的文件格式。LPM最初是作为EDIF标准的附件出现的。

    EDIF和LPM的标准化过程：

    1988年，ANSI/EIA-548: Electronic Design Interchange Format (EDIF), Version 2.0.0。

    1990年，LPM标准提出，供EIA审核。

    1993年，EIA 618: Electronic Design Interchange Format (EDIF) Version 3 0 0 Level 0 Reference Manual，LPM作为EDIF标准的附件，成为EI

    1995年，EIA PN 3714: Library of Parameterized Modules (LPM) Version 201。

    1996年，EIA-682: EDIF Version 400 (EIA-682-96) Electronic Design Interchange Format。

     1999年，EIA/IS-103A: Library of Parameterized Modules (LPM) Version 2.0。

    从年代上看来，88年到90年前后恰好是半定制设计风格超越全定制设计风格，成为VLSI芯片设计主流的时期。LPM标准的提出可能正是响应了半定制设计的需求。

     EDIF文件是EDA工具之间传递信息的标准格式。画过电路原理图和PCB的朋友一定知道，原理图文件绘制完毕后需要“生成网表”，进行 PCB布局布线之前先要“引入网表”，这样才能建立原理图文件和PCB文件之间的“逻辑映射关系”。EDIF文件就是网表文件的一种格式。在很多情况下， 原理图文件中的模块图形和PCB文件中的“封装”是一一对应的，这种“物理映射关系”就是通过“库文件”建立的。“库文件”包含了原理图模块的名称和图 形，也包含了封装文件的名称和图形，这样一来，“物理映射关系”就建立起来了。在不同的EDA工具之间，比如Protel和Cadence还有PowerPCB，逻辑映射关系是很容易互相通用的，但是由于支持不同的“库文件”，物理映射关系往往就建立不起来。

    在IC设计领域（包括PLD设计），EDIF文件就遇到了类似的问题：综合工具和实现工具必须达成一致。在LPM标准提出之前，这一点很难实现，毕竟IC设计领域存在太多的实现工艺和EDA工具。

    在LPM标准提出之前，对于某些逻辑的描述没有统一的标准，描述方法都是工艺相关（Technology dependent）的，所以综合工具生成的EDIF文件不具备可移植性。在采用了LPM标准之后，对于LPM库中包含的逻辑，所有的综合工具都采用同一 种行为描述方法，生成相同的EDIF文件，实现设计输入和网表的正确映射；实现工具包含各自工艺库与LPM库之间的唯一映射关系，从而能够“读懂”包含 LPM描述的EDIF文件，实现网表和工艺实现之间的正确映射。这样一来，EDID文件在不同的实现工具之间移植就不成问题了。（LPM并不是唯一的解决 方法，比如现在的EDA工具之间往往互相支持对方特定的库文件和网表格式，尤其像Synplicity这样的专业EDA公司，同时支持许多公司的器件和网 表格式和宏单元；而Altera和Xinlinx就不能互相支持）

    在这一过程中体现的原理是：通过增加一个映射层次，把一次映射关系转化为两次映射关系，两次映射关系的中介——包含LPM描述的EDIF文件——就具备了可移植性。