帖子
  • 帖子
  • 博文
资料
  • 资料
  • 专题
热门搜索： python HarmonyOS 嵌入式 电源 C语言 华为 电子竞赛 单片机 PCB
技术类别：
资料属性：
消耗E币：
  • 技术类别
  • 资料属性
  • 消耗E币
  • 半导体工艺：降低双重图形光刻的成本
    所需E币：3
    下载：1
    大小：351.95KB
    时间：2019.11.06
    上传者：汽电黄蜂
    双重图形（DP）将是32nm技术节点的备选光刻技术之一。但由于这种方法需要两次曝光和两次刻蚀步骤，因此工艺成本较高且比较耗时。IMEC及其研发伙伴已经详细研究了替代工艺流程，从成本、关键尺寸均匀性（C
    半导体工艺 双重图形光刻
1 ...194195196197198199200201
上传