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浅谈微带线的损耗二
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浅谈微带线的损耗……
微带线
高速串行
雷达感应ic
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时间:2020.03.16
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人体感应灯的原理图……
雷达
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人体感应
CAD出图设置技巧
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CAD出图设置技巧……
eda
辅助设计
EN8100S(T)快充芯片
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EN8100S(T)……
en8100s(t)
双面板布线技巧
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双面板布线技巧……
eda
辅助设计
新唐N6E003AT20
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时间:2020.03.16
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新唐N6E003AT20……
新唐
n6e003at20
国内外电解电容技术发展对比
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国内外电解电容技术发展对比,以及我国电容的发展现状。
电容
77256_POINN_TIP122
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时间:2020.03.11
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77256_POINN_TIP122……
77256_poinn
tip122
刻蚀工艺.2
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时间:2020.03.11
上传者:2iot
刻蚀工艺§1基本概念刻蚀:就是通过物理和/或化学方法将下层材料中没有被上第七章刻蚀工艺层掩蔽膜材料掩蔽的部分去掉,从而在下层材料上获得与掩蔽膜图形完全对应的图形。岳瑞峰清华大学微电子学研究所微纳器件与
刻蚀工艺
品质因数
湿法刻蚀
Slots in Planes-Dont Use Em
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时间:2020.03.16
上传者:givh79_163.com
SlotsinPlanes-DontUseEm……
eda
辅助设计
SMT印制板设计质量和审核
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SMT印制板设计质量和审核……
eda
辅助设计
外延生长
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外延生长……
外延生长
气相外延
掺杂
工艺模拟
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工艺模拟……
工艺模拟
suprem
扩散分布
光刻工艺A
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时间:2020.03.11
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光刻工艺A前面工艺的遗留问题第六章光刻工艺氧化、扩散、离子注入、外延、CVD等一系列工艺都是对整个硅园片进行处理,不涉及任何图形。在同一集成电路制造流程中,经历了同样的一系列加工岳瑞峰工艺后:如何在一
光刻工艺
掩膜版
光刻机
光刻工艺B
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时间:2020.03.11
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光刻工艺B光刻胶光刻胶的组成:由光敏化合物(PAC)、基体树脂和有机溶剂等正性光刻胶混合而成的胶状液体。都是碳基有机化合物。当受到特定波长光线的作用后特点:正胶中的长链聚合物曝光后分解而变得可溶。,光
光刻胶
深紫外
正胶
SoC Seminar 2009
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时间:2020.03.16
上传者:二不过三
SoCSEMInar2009……
eda
辅助设计
Specctra全自动布线器简介
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时间:2020.03.16
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Specctra全自动布线器简介……
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