工业电子技术_中国工业电子工程-第19页-面包板社区

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克里雅半导体科技 2024-9-6 16:25: 原创释放国产光耦合器的潜力; 光耦合器，也称为光隔离器，已成为现代电子产品中不可或缺的组件。它们的主要功能是在电路的不同部分之间提供电气隔离，确保安全并防止干扰。随着技术的发 ...; 280 2 0 2

光耦合器

腾恩科技-彭工 2024-9-6 16:22: 原创深入了解数字隔离器：革命性的隔离技术; 数字隔离器已成为光耦合器的一种更优越的替代品，具有尺寸更小、速度更快、功耗更低、集成更简单和可靠性更高等优点。在过去，设计工业、医疗和其他 ...; 297 2 0 2

数字隔离器隔离器光耦

腾恩科技-彭工 2024-9-6 16:17: 原创光耦合器的深入剖析; 光耦合器，也被称为光隔离器，几十年来一直是电子学的重要组件，为信号隔离提供了关键功能。它们广泛应用于各个行业，包括工业自动化和消费电子产品中，确 ...; 330 1 0 1

光耦合器光电耦合器光隔离器

GIRtina 2024-9-6 15:26: 原创振动传感器行业全景分析及发展趋势研究报告; 2024年9月6日调研咨询机构环洋市场咨询出版的《全球振动传感器行业总体规模、主要厂商及IPO上市调研报告，2024-2030》只要调研全球振动传感器总体规模，主要地 ...; 367 2 0 2

振动传感器行业

GIRtina 2024-9-6 14:17: 原创紫外线消毒系统行业发展动向及市场前景研究报告; 2024年9月6日调研咨询机构环洋市场咨询出版的《全球紫外线消毒系统行业总体规模、主要厂商及IPO上市调研报告，2024-2030》只要调研全球紫外线消毒系统总体规模 ...; 316 2 0 2

紫外线消毒系统

GIRtina 2024-9-6 13:49: 原创灭火设备行业全景分析及发展趋势研究报告; 2024-9-6调研咨询机构环洋市场咨询出版的【全球灭火设备行业总体规模、主要厂商及IPO上市调研报告，2024-2030】只要调研全球灭火设备总体规模，主要地区规模，主 ...; 409 2 0 2

灭火设备

苏州汶颢微流控 2024-9-6 11:29: 掩膜版与光刻胶的功能和作用; 掩膜版与光刻胶在芯片制造过程中扮演着不可或缺的角色，它们的功能和作用各有侧重，但共同促进了芯片的精确制造。‌ 掩膜版 ‌，也称为光罩、光掩膜或光刻掩 ...; 423 1 0 1

GIRtina 2024-9-6 11:25: 原创 SiC晶圆代工行业市场现状分析及投资机遇研究报告; 2024年9月6日环洋市场咨询机构出版了一份详细的、综合性的调研分析报告【全球SiC晶圆代工行业总体规模、主要厂商及IPO上市调研报告，2024-2030】。本报告研究全 ...; 355 3 0 3

SiC晶圆代工

7sms 2024-9-5 16:07: 一图看懂储能技术; 231 0 0 0

储能

GIRtina 2024-9-5 15:01: 原创北美是全球最大的前端模拟生产地区，占有大约68%的市场份额，其次是欧洲; 2024年9月5日调研咨询机构环洋市场咨询出版的《全球模拟前端（AFE）行业总体规模、主要厂商及IPO上市调研报告，2024-2030》只要调研全球模拟前端（AFE）总体规 ...; 252 1 0 1

模拟前端

保定众邦电气 2024-9-5 14:59: 过电压保护器的使用; 过电压保护器在电力系统中不可或缺。它能有效防止各种过电压对电气设备的损害。安装过电压保护器时，应严格按照规范进行操作，确保其与被保护设备连接可靠。在 ...; 143 2 0 2

过电压保护器

苏州汶颢微流控 2024-9-5 10:58: 铬版掩膜版介绍及制作方法; 铬版掩膜版在 IC生产中会大量使用，现社会因为LCD生产的档次提高了，也加大了生产量，铬板也逐渐由IC行业给推荐至LCD行业。铬板的优点很多，比如：线条精细、边 ...; 219 1 0 1

保定众邦电气 2024-9-4 15:14: 微机消谐装置在湿度过大场所的处理方法; 微机消谐装置在电力系统中起着重要的作用，但在湿度过大的场所运行时，可能会受到影响。应确保微机消谐装置安装环境具备良好的通风条件，以促进空气流通，降 ...; 176 1 0 1

微机消谐

苏州汶颢微流控 2024-9-4 11:28: 芯片光刻掩膜的保存方法; 光刻掩模是光的一种掩蔽模片，其作用有类似于照相的通过它，可以使它 “底下“的光剂部分成光，难溶于有机药品，一部分不感光，易溶于有机药品，以而制得选 ...; 188 1 0 1

粉体圈 2024-9-4 11:17: 原创 CMP抛光的起源与创新（清洗改进篇）完结; 受读者鼓舞，在继“磨料进化篇”之后，小编尽可能贴近原文，并与读者共同学习进步，一起了解关于CMP抛光的相关知识。本章侧重于清洗发展及其他一些超精益技术相 ...; 593 2 0 2

技术文

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