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单色点陈液晶屏320*240资料
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时间:2020.03.12
上传者:rdg1993
单色点陈液晶屏320*240资料SISHUOElectronicsCO.,LTD.CSD320240AS;'276ffff9$fff$$0$;……
"液晶显示模块
三星的64M大容量存储卡K9D1208V0A-SSB0,读写接口详细介绍
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大小:355.23KB
时间:2020.01.06
上传者:二不过三
三星的64M大容量存储卡K9D1208V0A-SSB0,读写接口详细介绍……
smartmedia
三星
存储卡
U盘芯片IC1114
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时间:2020.01.06
上传者:wsu_w_hotmail.com
U盘芯片IC1114……
SI
u盘芯片
ic1114
华为pcb布线规范
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时间:2020.01.07
上传者:238112554_qq
华为PCB布线规范……
eda
辅助设计
B题--声音导引系统
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时间:2020.01.07
上传者:2iot
2009竞赛试题2009年全国大学生电子设计竞赛试题|||||参赛注意事项||(1)2009年9月2日8:00竞赛正式开始。本科组参赛队只能在【本科组】题目||中任选一题;高职高专组参赛队在【高职高专
声音
导引
关于过零检测-变压器隔离
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时间:2020.01.06
上传者:微风DS
关于过零检测-变压器隔离……
过零检测
变压器隔离
外延工艺控制
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时间:2020.03.11
上传者:238112554_qq
外延工艺控制xcl§1.扩散原理§2.典型扩散工艺方法§3工艺控制和质量检测§4.工艺控制和质量监测一.工艺控制二.质量检测2005-3-1112005-3-112一.工艺控制假片和试片假假污染控制:
工艺控制
质量检测
电阻测量
半导体工艺:降低双重图形光刻的成本
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时间:2019.11.06
上传者:汽电黄蜂
双重图形(DP)将是32nm技术节点的备选光刻技术之一。但由于这种方法需要两次曝光和两次刻蚀步骤,因此工艺成本较高且比较耗时。IMEC及其研发伙伴已经详细研究了替代工艺流程,从成本、关键尺寸均匀性(C
半导体工艺
双重图形光刻
永磁同步电机(PMSM)、无刷直流电机的控制以及开关模
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时间:2020.03.16
上传者:2iot
永磁同步电机(PMSM)、无刷直流电机的控制以及开关模式电源(SMPS)的设计……
eda
辅助设计
AD6.0详细资料
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时间:2020.03.16
上传者:quw431979_163.com
AD6.0详细资料……
eda
辅助设计
官方资料-philips转NXP后包装的变化
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时间:2020.03.11
上传者:2iot
官方资料-philips转NXP后包装的变化PackingandlabelchangesrelatedtothenewbrandandtradenameNXPSemiconductorsAttachm
philips
nxp
pq
费用低廉的SMD 焊接指南
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时间:2020.03.16
上传者:16245458_qq.com
无论从哪个角度看,你都可能发现自己必须去焊接SMD封装(表面安装器件).无须担忧,这比看起来要容易得多!一段时间以后,你会为项目里使用表面安装器件而高兴,而不得不焊接通孔器件会令你groan.本文将引
贴片元件
焊接
高分辨率ADC概览
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时间:2020.03.12
上传者:978461154_qq
设计人员进行工业和数据采集项目设计时,很可能会遇到以下这些模数转换问题:这类似于过程控制系统,需要监控具有不同信号范围的各种传高分辨率ADC――概览感器信号,例如声压计。如果对较宽动态范围的信号进行增
高分辨率
ADC
2007年全国大学生电子设计大赛题目
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时间:2020.03.16
上传者:givh79_163.com
2007年全国大学生电子设计大赛题目……
电子设计
电子竞赛
用Z8 3XX实现挂机和摘机呼叫器ID
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时间:2020.03.13
上传者:微风DS
用Z83XX实现挂机和摘机呼叫器ID……
电子元器件
ASIC设计中基于Verilog语言的inout(双向)端口程序设计
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时间:2020.03.13
上传者:微风DS
ASIC设计中基于Verilog语言的inout(双向)端口程序设计……
ASIC设计
Verilog语言
inout
利用JTAG配置和回读Virtex
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时间:2020.03.13
上传者:二不过三
利用JTAG配置和回读Virtex……
jtag配置
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