小英说半导体的文章-第8页-面包板社区

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小英说半导体 2023-3-29 11:11: 原子层蚀刻的下一步是什么; 引言经过多年的研发，几家晶圆厂工具供应商终于在去年开始推出基于称为原子层蚀刻 (ALE) 的下一代技术的系统。ALE正在进入 16/14nm，但它将在 10/7nm ...; 862 4 0 4

小英说半导体 2023-3-28 10:38: 在高温下仅使用氧气进行硅蚀刻进行硅微加工的替代方法; 引言基于化学的硅晶片微加工主要有两种类型：各向同性和各向异性硅蚀刻。各向同性蚀刻是所有晶体方向的蚀刻速率相同的地方，非常适合结构释放蚀刻 ...; 756 7 0 7

半导体蚀刻晶圆蚀刻

小英说半导体 2023-3-27 12:39: 电磁能源辅助的湿化学蚀刻用于开发用于微机电系统的石英晶体; 引言本文将重点改进石英晶体的加工方法，但这些加工方法并不局限于石英，也可以应用于任何压电材料。今天几乎所有的电子设备都需要一个石英晶体 ...; 921 4 0 4

小英说半导体 2023-3-24 10:56: 一种固有各向异性表面润湿模式的封闭蚀刻策略; 引言各向异性功能图形表面在微流体、生物医学和光电子学等领域得到了重要的应用。然而，表面图案在很大程度上依赖于高端设备和昂贵的模具/掩模和光阻剂。 ...; 858 14 0 14

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小英说半导体 2023-3-23 10:45: 通过湿化学蚀刻对增材制造的镍钛诺进行表面改性; 引言几乎等原子的镍钛（NiTi）合金被用于许多生物医学应用（支架、牙支架、手术器械、植入物等）。由于其独特的形状记忆效应、超弹性性、相对较低的弹性模 ...; 809 8 0 8

小英说半导体 2023-3-22 11:08: HF：H2O2：CH3COOH中Si、Si1−xGex和Ge的湿式化学蚀刻; 引言今天，整个互补金属氧化物半导体社区正在寻找解决方案，以满足国际半导体技术路线图的要求。过程诱导应变技术目前被广泛应用于 65 和 45 nm ...; 780 2 0 2

小英说半导体 2023-3-21 15:37: BST薄膜的湿法化学刻蚀工艺对于热电红外探测器的应用; 引言铁电材料已被广泛研究，用于下一代集成动态存取存储器（ DRAM ）和非冷却红外焦平面阵列（ UFPA ）。在众多的铁电体中，（ Ba ， Sr ...; 925 8 0 8

半导体蚀刻硅蚀刻湿清洗晶圆清洗

小英说半导体 2023-3-17 09:20: 氮化铝单晶的湿法化学蚀刻; 引言氮化镓因其独特的性质和在光电和微电子器件中的潜在应用而引起了广泛的兴趣。然而， GaN 异质外延层中高达 108 cm-2 的位错密度缩短了 Ga ...; 480 4 0 4

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