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小英说半导体
2023-6-2 14:23
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通过化学气相沉积工艺对改进太阳能电池的表面钝化的研究
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引言 硅异质结（SHJ）太阳能电池由于其高效的潜力，在过去的几十年里一直引起了社区的极大兴趣。硅晶片表面的钝化是独立于硅基技术的一个非常重要的 ...
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小英说半导体
2023-5-30 15:47
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新型蚀刻溶液与单晶硅产生的金字塔纹的工艺
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引言 减少单晶硅（Si）全反射的结构通常是通过化学蚀刻、机械蚀槽、激光蚀槽或等离子体蚀刻等方法来进行。在这些方法中，由于化学蚀刻过程的各向异性 ...
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小英说半导体
2023-5-29 11:17
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异丙醇浓度和刻蚀时间对湿式化学各向异性蚀刻的影响
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引言 硅太阳能电池因其低成本、易制造、环保等优点，占据了目前的光伏市场。平面硅表面具有较高的自然反射率，并具有较强的光谱依赖性，为了降低这种 ...
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小英说半导体
2023-5-25 14:35
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局部测定硅晶片中金属杂质
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引言 在超大型集成（ULSI）器件制造过程中，随着包装密度的增加，对可接受的金属污染水平的要求变得更加严格。由于微量的金属杂质会影响电子器件的性 ...
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小英说半导体
2023-5-19 10:37
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快速超深硅腔
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引言 微系统技术被广泛应用于制造和实验室研究中，主流的微电子技术和微技术主要使用硅作为基底材料。电感耦合等离子体（ICP）反应器被广泛应用于各向 ...
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小英说半导体
2023-5-18 09:57
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基于金属辅助化学蚀刻的硅深蚀刻
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引言 硅微加工是一种通过深蚀刻在硅衬底上制造各种微或纳米结构的技术。一般来说，硅微加工可以分为两类。第一类是干法蚀刻法。在大多数实践中，深反 ...
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小英说半导体
2023-5-16 10:18
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硅晶片蚀刻用单片湿式蚀刻槽的设计
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引言 微机电系统（MEMS）制造中的硅片蚀刻是形成三维结构的挑战。众所周知的硅湿硅蚀刻采用氢氧化钾（氢氧化钾）、四甲基氢氧化铵（TMAH）和氢氧化钠（ ...
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小英说半导体
2023-5-15 11:09
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超薄高效硅晶片蚀刻技术
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引言 能源被认为是人类在未来50年里面临的头号问题。据估计，太阳能显示出在一小时内供应的潜力，即能源的量，以满足世界总能源需求的一年。光伏产业面 ...
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小英说半导体
2023-5-12 13:02
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硅片的蚀刻方法
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引言 在微系统技术中，体蚀刻技术在表面微机械加工技术之后占据了重要地位。利用体蚀刻，可以蚀刻刚性高质量的单晶结构。与表面微机械加工相比，预应 ...
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小英说半导体
2023-5-11 22:24
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硅晶片清洗：半导体制造过程中的一个基本和关键步骤
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引言 半导体是一种导电率介于绝缘体和导体之间的固体物质。半导体材料的定义属性是它可以掺杂杂质，以可控的方式改变其电子属性。硅是开发微电子器件时最常 ...
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小英说半导体
2023-5-9 15:30
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表面清洗工艺对晶圆键合的影响
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引言 随着工业和消费的升级，电子设备不断小型化和智能化，这对电子设备提出了更高的要求。可靠的封装技术可以有效提高器件的使用寿命。阳极键合技术 ...
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小英说半导体
2023-5-6 12:58
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抗蚀剂涂层基材制备
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化学杂质和颗粒的清洗、水解吸的加热以及用增粘剂的处理都是抗蚀剂涂层基底制备的一部分。以下本文具体讲解这些措施。 清洁基板 对于清洁的基材，建 ...
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小英说半导体
2023-5-4 21:32
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硅圆的清洗程序
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引言 目前，英思特公司正在研究一种定义和实现质量单位（公斤）的新方法。本质上，通过固定NA的数值，千克可以定义为{NA}*1000/12碳-12原子的质量。一 ...
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小英说半导体
2023-5-3 19:41
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用于PERC和SHJ的高级碱性制绒和清洁设备
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引言 随着单晶硅晶片金刚石线锯切的成功引入和晶圆产量的稳步上升，下游工艺必须跟进。预测在2026年之前，湿化学步骤的必要产量将达10000片/小时（总产 ...
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小英说半导体
2023-5-2 16:42
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镀铝晶圆兆声波清洗过程中颗粒去除效率的评估
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引言 在半导体高速器件制造过程中，几种金属被用作后段制程(BEOL)工艺中的互连和接触。然而，在金属沉积过程中，有可能产生不需要的颗粒，这些颗粒可 ...
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