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    时间:2020.03.11
    上传者:2iot
    刻蚀工艺§1基本概念刻蚀:就是通过物理和/或化学方法将下层材料中没有被上第七章刻蚀工艺层掩蔽膜材料掩蔽的部分去掉,从而在下层材料上获得与掩蔽膜图形完全对应的图形。岳瑞峰清华大学微电子学研究所微纳器件与
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    时间:2020.03.11
    上传者:微风DS
    薄膜淀积工艺(下)……
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    时间:2020.03.11
    上传者:238112554_qq
    薄膜淀积工艺(中)……
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    时间:2020.03.11
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    isd4004pdfdatasheetISD4004SERIESSINGLE-CHIP,MULTIPLE-MESSAGESVOICERECORD/PLAYBACKDEVICES8-,10-,12-,A
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    时间:2020.03.11
    上传者:2iot
    Isd1110组件资料ISD-1108ꆢ1110ꆢ14208쏫ꆢ10쏫ꆢ20쏫폯틴슼럅쳹욬ퟩ볾ISD쾵쇐폯틴슼럅ퟩ볾ꎬ쫇펦폃쒿잰벼쫵ퟮ쿈뷸뗄쏀맺ISD릫쮾떥욬폯틴뒦샭듳맦쒣벯돉뗧슷ISD쾵쇐캪뫋탄ꎬ쓚
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    时间:2020.03.11
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    Isd4003英文资料!"!"!"#$"%%"&&'"!(')'*&+!(')'*&,-""(.*&-""(/*……
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    上传者:rdg1993
    ISD4004芯片资料ISD4004系列单片语音录放电路一简述●单片8至16分钟语音录放●内置微控制器串行通信接口●3V单电源工作●多段信息处理●工作电流25-30mA,维持电流1μA●不耗电信息保存
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    时间:2020.03.11
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    T360SB英文资料ISD-T360SBVoiceDSPDigitalSpeechProcessorwithFull-DuplexSpeakerphone,Master/SlaveCODECInter
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    时间:2020.03.11
    上传者:2iot
    \电子元件基础教程第一章:基本元件第一节电阻器??电阻,英文名resistance,通常缩写为R,它是导体的一种基本性质,与导体的尺寸、材料、温度有关。欧姆定律说,I=U/R,那么R=U/I,电阻的基
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    FPGA_CPLD入门教程.pdf……
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    上传者:2iot
    芯片查找工具……
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    时间:2020.03.11
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    74LS00.pdf54LS00DM54LS00DM74LS00Quad2-InputNANDGatesJune198954LS00DM54LS00DM74LS00Quad2-InputNANDGat
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    时间:2020.03.11
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    74LS02芯片.pdf54LS02DM54LS02DM74LS02Quad2-InputNORGatesJune198954LS02DM54LS02DM74LS02Quad2-InputNORGat
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    74LS08.pdf54LS08DM54LS08DM74LS08Quad2-InputANDGatesJune198954LS08DM54LS08DM74LS08Quad2-InputANDGates
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    时间:2020.03.11
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    74LS20.pdf54LS20DM54LS20DM74LS20Dual4-InputNANDGatesJune198954LS20DM54LS20DM74LS20Dual4-InputNANDGat
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    74LS28.pdfDM74LS28Quad2-InputNORBufferFebruary1992DM74LS28Quad2-InputNORBufferGeneralDescriptionThe’
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    时间:2020.03.11
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    74LS30.pdf54LS30DM54LS30DM74LS308-InputNANDGateJune198954LS30DM54LS30DM74LS308-InputNANDGateGeneralD