WAT（Wafer Acceptance Test）测试，也叫PCM（Process Control Monitoring），对Wafer 划片槽（Scribe Line）测试键（Test Key）的测试，通过电性参数来监控各步工艺是否正常和稳定。

划片槽（Scribe Line）和测试键（Test Key）：这是在半导体制造过程中用于WAT测试的两个关键元素。划片槽是沿着晶圆边缘的窄条，用于后续的切割（dicing）过程。测试键则是设在划片槽内或者边缘的特定区域，用于WAT测试。 电性参数：这些参数包括电容、电阻、接触以及金属线路等，这些都是在制造过程中需要监控的重要指标。它们反映了半导体器件的电气特性，如电流传导能力、电压承受能力等。

CP（Circuit Probing）也叫“Wafer Probe”或者“Die Sort”，是对整片Wafer的每个Die的基本器件参数进行测试，例如Vt（阈值电压），Rdson（导通电阻），BVdss（源漏击穿电压），Igss（栅源漏电流），Idss（漏源漏电流）等，把坏的Die挑出来，会用墨点（Ink）标记，可以减少封装和测试的成本，CP pass才会封装，一般测试机台的电压和功率不高，CP是对Wafer的Die进行测试，检查Fab厂制造的工艺水平，把坏的Die挑出来，可以减少封装和测试的成本。

FT（final test）是对封装好的Chip进行Device应用方面的测试，把坏的chip挑出来，FT pass后还会进行process qual和product qual，FT是对package进行测试，检查封装造厂的工艺水平。

广义上的FT也称为ATE（Automatic Test Equipment），一般情况下，ATE通过后可以出货给客户，但对于要求比较高的公司或产品，FT测试通过之后，还有SLT（System Level Test）测试，也称为Bench Test。SLT测试比ATE测试更严格，一般是功能测试，测试具体模块的功能是否正常。经长期的多工况验证，满足更多生产环境和工程环境的要求。

WAT监控工艺一般流程

WAT测试常见结构

隔离结构

隔离结构用于测量黄光、刻蚀与导线相关的能力，如AA，Poly，Metal

测试方法：在两个Pad上加电压测量电流或加电流测量电压

导通结构

导通结构用于测量黄光、刻蚀与导线相关的能力，如AA，Poly，Metal

测试方法：在两个Pad上加电压测量电阻

孔接触结构

孔接触结构用于测量孔相关的工艺能力，如CNT、VIA

测试方法：在两个Pad上加电压测量电阻

薄层电阻结构

薄层电阻结构用于测量导线的Rs，如AA，both silicide and non-silicide, wells, metals

测试方法：在两个Pad上加电压测量电阻

栅介质结构

栅介质结构用于监控栅介质的厚度

测试方法：测量MOS电容的容值，然后计算得出栅介质厚度

接点泄漏结构

用于监控S/D接点漏电流，包括bulk pattern, AA edge pattern, poly finger pattern

测试方法：在两个Pad上加电压测量电流或加电流测量电压

场效应器件结构

用于监控隔离能力，有Poly和Metal 2种结构

测试方法：体硅接地，栅极加载扫描电压，测量Pad间的电流

硅化物桥连结构

用于监控Spacer是否存在硅化物残留

测试方法：Pad间加电压，测量电流

器件结构

用于监控器件表现

测试方法：Vt，Ion，Ioff，Idsat，DIBL，Isub，Ig等按定义进行测试，详细说明后续介绍

其它结构

设计规则检查结构，例如结到阱间距规则检查、阱包围规则检查、多晶硅端帽规则检查、接触孔到多晶硅间距规则检查等。

H型器件用于监测器件的 “驼峰现象”（hump phenomena）。

米勒电容用于监测多晶硅的边缘放置误差（E-CD，Edge Critical Dimension）。

使用小电阻监测晶圆允收测试（WAT，Wafer Acceptance Test）探针卡的接触电阻。