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小英说半导体 2023-6-26 13:55: 低腐蚀性蚀刻浴中溶解的铝如何影响酸蚀表面; 引言铝及其合金由于其出色的重量强度比和耐腐蚀性，在过去几十年中得到了广泛应用。然而，由于铝的两性性质，铝不能原样使用，铝表面上的自然氧化膜 ...; 623 10 0 10

锦正茂科技 2023-6-25 11:35: 真空热压烧结炉的功能概述; 真空热压烧结炉是将真空、气氛、热压成型、高温烧结结合在一起设备，适用于粉末冶金、功能陶瓷等新材料的高温热成型。如应用于透明陶瓷、工业陶 ...; 669 10 0 10

烧结炉真空烧结炉热压烧结炉材料烧结实验炉

小英说半导体 2023-6-16 14:57: 各向同性锗化硅（SiGe）等离子体蚀刻过程中环向硅形成机理; 引言在逻辑电路中，为了克服短沟道效应，场效应晶体管(FET)从平面 FET 变为FinFET 。以对于FinFETs的缩放，增加鳍高度以增加沟道宽度。 ...; 1070 8 0 8

小英说半导体 2023-6-15 11:22: Si/SiGe多层堆叠的干法蚀刻; 引言近年来，硅/硅锗异质结构已成为新型电子和光电器件的热门课题。因此，人们对硅/硅锗体系的结构制造和输运研究有相当大的兴趣。在定义Si/SiGe中的 ...; 747 4 0 4

小英说半导体 2023-6-14 11:16: 硅双通道光纤低温等离子体蚀刻控制与SiGe表面成分调制; 引言在过去的几年中，MOSFET结构从平面结构改变为鳍型结构(FinFETs ),这改善了短沟道效应，并导致更高的驱动电流泄漏。然而，随着栅极长度减小到小于20 ...; 723 5 0 5

小英说半导体 2023-6-13 11:09: 锗化硅（SiGe）和硅（Si）之间的各向同性和选择性蚀刻机制; 引言目前，硅的电气和热性能在微电子技术领域中应用广泛。锗化硅（SiGe）合金的使用频率越来越高，在互补金属氧化物半导体技术中，英思特通过使用SON ...; 1242 7 0 7

小英说半导体 2023-6-12 16:41: 通过X射线光刻在指尖大小的芯片中产生高精度微光学元件的晶圆级制造; 引言在过去的二十年中，市场对大量N灰度级三维微纳米元件的需求一直很活跃。基于铅笔束的光刻技术，我们可以生产出精确的组件，但目前 ...; 642 8 0 8

techff 2023-6-9 16:17: 一文告诉你半导体封装有多少种; 在这篇文章中，我们将带您了解半导体封装的不同分类，包括制造半导体封装所用材料的类型、半导体封装的独特制造工艺，以及半导体封装的应用案例。半导体封 ...; 1624 15 0 15

半导体封装

techff 2023-6-9 16:06: 半导体封装的四个等级、作用和演变过程; 在邮寄易碎物品时，使用合适的包装材料尤为重要，因为它确保包裹能够完好无损地到达目的地。泡沫塑料、气泡膜和坚固的盒子都可以有效地保护包裹内的物品。同样 ...; 1469 12 0 5

半导体封装

小r很快乐 2023-6-8 15:48: 一文了解R型变压器短路阻抗的重要性！; 在日常的 r型变压器运行过程中，常常会发现有一些性能因为没有选择好导致变压器在运行时出现不同故障，这将会直接影响到我们的工作效率。那我们在选择变压 ...; 851 10 0 10

R型变压器电子变压器变压器

可可盖世大学堂 2023-6-6 09:40: 原创车身一体化压铸产业研究报告; 当今，汽车制造业正朝着更轻、更高效、更可持续的方向发展。在这一轻量化的趋势中，车身一体化压铸技术成为了一项引人注目的创新。通过将多个铝合金零部件整 ...; 765 13 0 13

一体化压铸车身一体化一体化压铸趋势

ArterisIP 2023-6-6 02:13: 原创使用片上网络创建更高容量和更高性能的 SoC; 不要花费数年时间在内部自己开发片上网络（ NoC ）。使用 Arteris 的 FlexNoC 5 片上网络互连可以提高生产率、降低风险并加快上市时间 ...; 1108 10 0 10

小英说半导体 2023-6-5 17:29: 针对紫外/臭氧表面处理增加了SU-8光刻胶聚合物的亲水性的研究; 针对紫外/臭氧表面处理增加了SU-8光刻胶聚合物的亲水性的研究引言 SU-8是一种具有低杨氏模量（沿纵向的弹性模量）以及热稳定性优良的负光敏聚合物， ...; 1209 4 0 4

小英说半导体 2023-6-2 14:23: 通过化学气相沉积工艺对改进太阳能电池的表面钝化的研究; 引言硅异质结（SHJ）太阳能电池由于其高效的潜力，在过去的几十年里一直引起了社区的极大兴趣。硅晶片表面的钝化是独立于硅基技术的一个非常重要的 ...; 922 10 1 4

小英说半导体 2023-5-30 15:47: 新型蚀刻溶液与单晶硅产生的金字塔纹的工艺; 引言减少单晶硅（Si）全反射的结构通常是通过化学蚀刻、机械蚀槽、激光蚀槽或等离子体蚀刻等方法来进行。在这些方法中，由于化学蚀刻过程的各向异性 ...; 1046 7 0 7

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