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小英说半导体 2023-9-18 14:03
- 等离子体基铜蚀刻工艺及可靠性
- 等离子体基铜蚀刻工艺及可靠性 引言 近年来，铜(Cu)作为互连材料越来越受欢迎，因为它具有低电阻率、不会形成小丘以及对电迁移(EM)故障的高抵抗力。 ...
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锦正茂科技 2023-9-13 11:21
- 原创 真空腔体的设计要点
- 真空腔体是保持内部为真空状态的容器，真空腔体设计制作要考虑容积、材质和形状。 1、 根据应用需求选择腔体形状。几种代表性的真空腔体包括垂直真空腔 ...
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- 一种用醋酸刻蚀氧化铜的新方法
- 引言 由于乙酸不会氧化铜表面，因此乙酸常用于去除氧化铜而不侵蚀铜膜。乙酸还具有低表面张力，易于从表面移除。因此，不需要去离子(DI)水冲洗来移 ...
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国纳科技匠 2023-9-9 14:40
- 原创 开启深度视觉新篇章，知芯传感MEMS结构光投射模组助力工业智造！
- 今天，好消息传来：MEMS器件国产化替代的践行者知芯传感，推出了最新开发的产品——MEMS结构光投射模组！这一模组的推出，将有助于解决工业自动化和协作 ...
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- 通过检测金刚石线锯硅片表面颗粒负荷来评价清洗工艺的新方法
- 通过检测金刚石线锯硅片表面颗粒负荷来评价清洗工艺的新方法 引言 高效硅太阳能电池的加工在很大程度上取决于高几何质量和较低污染的硅晶片的可用性 ...
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- RCA关键清洗流程
- 硅集成电路(IC)的制造需要500-600个工艺步骤，具体取决于器件的具体类型。在将整个晶圆切割成单独的芯片之前，大部分步骤都是作为单元过程进行的。大约30%的步 ...
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- 金属纳米颗粒通过水基剥离方案使用嵌段共聚物模板
- 引言 随着纳米结构表面和界面在广泛的科学和技术应用中变得越来越重要，确定可扩展和廉价的方法来实现这些变成了一个关键的挑战。特别是有序、非密 ...
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- 具有独特底部轮廓的剥离光刻胶的开发
- 引言 金属图案的剥离方法已广泛应用于各种电子器件的制造过程中，如半导体封装、MEMS和LED的制造。与传统的金属刻蚀方法不同的是，采用剥离法的优点 ...
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- 过硫酸铵溶液蚀刻回收铜上石墨烯片的合成
- 引言 石墨烯是一种原子级薄层2D碳纳米材料，具有以六方晶格结构排列的sp2键碳原子。石墨烯因其优异的物理和电子性能而受到广泛关注。 自 发现石墨 ...
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- 单片交流氮化铟镓发光芯片
- 如今， 首次单片 已 集成了高击穿肖特基势垒二极管(SBD)和氮化铟镓(InGaN)发光二极管 (LED)，以提供由交流电(AC)供电的单芯片。因此， 英思特 这款3W器件 ...
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Copper_Hou 2023-9-1 08:57
- 原创 Wafer Top Electrostatics Induced Damage Mode at SEMI Wafer Fabrications
- 同文转自微信公众号“ESDiS Release”。每间wafer fab都存在的静电问题。 The electrostatics problems in the front-end manufacturing of semiconductors (ie ...
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- 原创 A Refreshed Review of Electrostatics, electrostatic charge and ESD
- 广义上刷新静电领域的主要专业术语再认知：Electrostatics （静电学）, electrostatic charge （静电）, ESD （静电释放或静电放电）。 同文转自微信公众号“ESD ...
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ArterisIP 2023-8-21 13:44
- 原创 面向 21 世纪的自动化SoC集成
- 面向 21 世纪的 自动化 SoC 集成 作者： Pascal Chauvet Pascal 在 Arteris 领导 SoC 集成产品的销售和 ...
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优特美尔电子 2023-8-18 10:21
- 干货 | 放大器驱动SAR ADC电路的设计难点
- SAR ADC 的驱动电路设计存在多个难点，处理不当将导致 ADC 输出码值跳动范围巨大。上周接触到的一个案例就是这样，与工程师检视完原理图，发现工程师是一 ...
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- 干货 | 这样讲解ESD太容易理解了
- 一直想给大家讲讲 ESD 的理论，很经典。但是由于理论性太强，如果前面那些器件理论以及理论不懂的话，这个大家也不要浪费时间看了。任何理论都是一环套一环 ...
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