EDA/ IP/ 设计与制造
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飞鱼慕鸟 2023-7-19 09:01
原创 最新BMS产品及技术发展
1. ACE 公司的电池及BMS 深圳ACE公司的EnerExpert磷 酸铁锂电池是一种用于商业和工业不间断清洗的理想的能源解决方式,其最显著的优势在于电池寿命 ...
小英说半导体 2023-7-17 15:50
氢微波等离子体中氧氮化钛薄膜的稳定性及蚀刻
引言 氮化钛(TiN)具有许多优异的机械和物理性能,如高熔点、高硬度和化学稳定性、良好的导电性和导 热性、高耐腐蚀性和抗氧化性。因此,TiN已被广 ...
小英说半导体 2023-7-13 16:06
无氢氟蚀刻剂中钛选择性湿蚀刻铜的研究
引言 钛和铜薄膜在微加工设备中有多种应用,如互连或硅通孔(TSV)。铜越来越多地被用作互连材料,并在高性能集成电路中取代铝。与铝相比,其电导率几乎 ...
锦正茂科技 2023-7-10 10:26
磁铁的用途概述
磁铁 是可以产生磁场的物体,为一磁偶极子,能够吸引铁磁性物质如铁、镍、钴等金属。磁极的判定是以细线悬挂一磁铁,指向北方的磁极称为指北极或 N 极,指 ...
锦正茂科技 2023-7-10 09:57
梯度电磁铁的应用
梯度磁场是指磁场强度随空间位移的变化磁场强度发生变化的磁场,一维的梯度磁场可以用 dH/dx 来表示。磁场梯度方向一般我们指磁场梯度变化最大的方向,当 dH/d ...
锦正茂科技 2023-7-8 11:51
原创 为什么有些半导体器件的生产工序要在真空中进行
工艺设备腔体内的真空度是一方面要满足辉光放电的起辉条件,另一方面避免粒子碰撞过多导致动量损失。等离子体化学气相沉积、磁控溅射、干法刻蚀等工艺设备,都 ...
小英说半导体 2023-7-7 16:41
用于砷化镓衬底再利用和柔性电子器件的外延剥离工艺
引言 外延剥离工艺能够将 III-V器件层从砷化镓衬底上分离,并且 在 通过重复使用衬底来避免 III-V器件的高成本 方面也已被广泛研究 。传统 ...
小英说半导体 2023-7-7 16:39
用砷化镓基材料的高可控ICP蚀刻
引言 当制造诸如异质结双极晶体管 (HBT)的电子器件时,可控的各向异性半导体干法蚀刻工艺是非常理想的 。 此外,在光学逻辑门阵列中,取样光栅 ...
ArterisIP 2023-7-6 10:50
原创 什么时候仅有NoC 还不够?
什么时候 仅有 NoC 还不够? 作者: Guillaume Boillet Guillaume Boillet (纪尧姆·布瓦莱特) 是 Arteris IP 的产品管理高 ...
小英说半导体 2023-7-6 10:28
砷化镓微纳米器件的制造工艺条件
引言 与硅基器件相比, III-V半导体具有更高的电子迁移率和峰值速度,因此更适合光电子学以外的高性能应用。目前III-V材料的不同工艺技术仍然具有 ...
techff 2023-7-5 09:58
三分钟了解NAND Flash
NAND Flash是非挥发性存储器, 这意味着在关闭电源时仍会保留数据, 因此它适合需要数据存储的所有电子产品。 NAND Flash既小又轻,又具有抗机械冲击 ,存储 ...
techff 2023-7-5 09:53
晶圆背面研磨的详细工艺流程
经过前端工艺处理并通过晶圆测试的晶圆将从背面研磨(Back Grinding)开始后端处理。背面研磨是将晶圆背面磨薄的工序,其目的不仅是为了减少晶圆厚度,还在于 ...
锦正茂科技 2023-7-1 13:26
原创 不同规格的磁场线圈适用领域
磁场线圈基于毕奥-萨法尔定律,以绕组中通电流的形式复现磁场的线圈,用于复现标准磁场,是弱磁场计量测试领域最主要的标准器具之一。按所复现的磁场类型可分为 ...
锦正茂科技 2023-7-1 11:07
电磁铁磁性大小跟哪些因素有关
影响 电磁铁 磁力大小的因素主要有四个,一是缠绕在铁芯上线圈的圈数,二是线圈中电流的强度,三是缠绕的线圈与铁芯的距离,四是铁芯的大小形状。 首先要 ...
飞鱼慕鸟 2023-6-29 16:58
原创 浅谈舵轮开发及难点
一、开发路径 舵轮研发技术路径一般为从上到下模式,先确定直行部分功率段,按市场需求选定外观尺寸,设定功率密度,根据运行工作制、运行工况和预计应用车 ...
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