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小英说半导体 2023-7-6 10:28
- 砷化镓微纳米器件的制造工艺条件
- 引言 与硅基器件相比， III-V半导体具有更高的电子迁移率和峰值速度，因此更适合光电子学以外的高性能应用。目前III-V材料的不同工艺技术仍然具有 ...
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techff 2023-7-5 09:58
- 三分钟了解NAND Flash
- NAND Flash是非挥发性存储器, 这意味着在关闭电源时仍会保留数据, 因此它适合需要数据存储的所有电子产品。 NAND Flash既小又轻，又具有抗机械冲击 ，存储 ...
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- 晶圆背面研磨的详细工艺流程
- 经过前端工艺处理并通过晶圆测试的晶圆将从背面研磨（Back Grinding）开始后端处理。背面研磨是将晶圆背面磨薄的工序，其目的不仅是为了减少晶圆厚度，还在于 ...
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晶圆
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锦正茂科技 2023-7-1 13:26
- 原创 不同规格的磁场线圈适用领域
- 磁场线圈基于毕奥-萨法尔定律，以绕组中通电流的形式复现磁场的线圈，用于复现标准磁场，是弱磁场计量测试领域最主要的标准器具之一。按所复现的磁场类型可分为 ...
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- 电磁铁磁性大小跟哪些因素有关
- 影响 电磁铁 磁力大小的因素主要有四个，一是缠绕在铁芯上线圈的圈数，二是线圈中电流的强度，三是缠绕的线圈与铁芯的距离，四是铁芯的大小形状。 首先要 ...
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飞鱼慕鸟 2023-6-29 16:58
- 原创 浅谈舵轮开发及难点
- 一、开发路径 舵轮研发技术路径一般为从上到下模式，先确定直行部分功率段，按市场需求选定外观尺寸，设定功率密度，根据运行工作制、运行工况和预计应用车 ...
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- 原创 螺线管与电磁铁有什么区别?为什么通电时电磁铁的磁性比螺线管的磁性强？
- 螺线管与电磁铁有什么区别 ? 为什么通电时电磁铁的磁性比螺线管的磁性强 ？ 螺线管与电磁铁都绕有线圈 ， 当通电时都会产生磁场 ， ...
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- 电感耦合等离子刻蚀
- 引言 众所周知，化合物半导体中不同的原子 比 对材料的蚀刻特性有很大的影响。 为了对 蚀刻速率和表面形态的精确控制， 通过使用 低至25nm的薄 ...
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- 低腐蚀性蚀刻浴中溶解的铝如何影响酸蚀表面
- 引言 铝及其合金由于其出色的重量强度比和耐腐蚀性，在过去几十年中得到了广泛应用。然而，由于铝的两性性质，铝不能原样使用，铝表面上的自然氧化膜 ...
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- 真空热压烧结炉的功能概述
- 真空热压烧结炉是将真空、气氛、热压成型、高温烧结结合在一起设备，适用于粉末冶金、功能陶瓷等新材料的高温热成型。如应用于透明陶瓷、工业陶 ...
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- 各向同性锗化硅（SiGe）等离子体蚀刻过程中环向硅形成机理
- 引言 在逻辑电路中， 为了 克服短沟道效应 ， 场效应晶体管(FET)从平面 FET 变为FinFET 。 以对于FinFETs的缩放，增加鳍高度以增加沟道宽度。 ...
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- Si/SiGe多层堆叠的干法蚀刻
- 引言 近年来，硅/硅锗异质结构已成为新型电子和光电器件的热门课题。因此，人们对硅/硅锗体系的结构制造和输运研究有相当大的兴趣。在定义Si/SiGe中的 ...
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- 硅双通道光纤低温等离子体蚀刻控制与SiGe表面成分调制
- 引言 在过去的几年中，MOSFET结构从平面结构改变为鳍型结构(FinFETs ),这改善了短沟道效应，并导致更高的驱动电流泄漏。然而，随着栅极长度减小到小于20 ...
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- 锗化硅（SiGe）和硅（Si）之间的各向同性和选择性蚀刻机制
- 引言 目前，硅的电气和热性能在微电子技术领域中应用广泛。锗化硅（SiGe）合金的使用频率越来越高，在互补金属氧化物半导体技术中，英思特通过使用SON ...
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- 通过X射线光刻在指尖大小的芯片中产生高精度微光学元件的晶圆级制造
- 引言 在过去的二十年中，市场对大量N灰度级三维微纳米元件的需求一直很活跃。 基于铅笔束的光刻技术 ，我们 可以生产 出 精确的组件，但 目前 ...
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