扩散工艺原理 第三章 扩散工艺 三、杂质扩散 §1.扩散原理 1. 恒定表面源扩散 扩散过程中，硅片表面杂质浓度始 §2.典型工艺 终不变这种类型的扩散称为恒定表 面源扩散。其扩散后杂质浓度分布 §3.扩散方法 为余误差函数分布。 重写扩散方程（2－3）： §4.工艺控制和质量监测 自学 CAI课件 N = D 2 N (x,t) 2005-3-11 1 ……