EDA/ IP/ 设计与制造
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小英说半导体 2024-4-9 11:20
原创 蚀刻过程中的蚀刻引起的物理损伤和污染
引言 高选择性氧化物蚀刻是成功制造下一代半导体器件的重要过程。为了实现这一目标,高密度等离子体源通常使用高 C/F比值气体和含氢气体的组合进行研究。 ...
techff 2024-3-20 17:07
聊聊烙铁以及如何对烙铁头进行清洁、维护和镀锡
作者:Digi-Key工程师 Chris Dillman 在本篇帖子中,我想聊聊烙铁以及如何对烙铁头进行清洁、维护和镀锡。 什么是烙铁? 烙铁是用于焊接的手动工 ...
小英说半导体 2024-3-19 11:03
为什么晶圆清洗在芯片设计和生产中很重要
半导体彻底改变了电子行业,并成为现代技术的重要组成部分。从计算机和智能手机到心脏起搏器和军事通信系统,半导体为各种设备提供动力。随着半导体技术的不断 ...
小英说半导体 2024-3-14 14:57
湿化学分析
我们通过对液体和解决方案进行分析,以获取有关半导体材料、工艺和集成电路生产环境的信息,在半导体工业中被称为湿化学。有超过120个程序被用来获取具体的行业 ...
小英说半导体 2024-3-12 11:05
什么是湿法蚀刻工艺
在晶圆制造中,蚀刻是指从晶圆去除材料的过程,即从硅衬底本身或从晶圆上的任何薄膜或材料层去除材料。有两种主要类型的蚀刻:干法蚀刻和湿法蚀刻。湿法蚀刻 是 ...
小英说半导体 2024-3-11 10:47
硅晶片的清洗技术
引言 高质量的晶圆在晶体精度、成型质量和表面质量方面都很优越,所以增加LSIs(大规模集成电路)的集成密度需要更高质量的硅晶片,但我们必须考虑芯片尺寸 ...
ArterisIP 2024-3-4 14:44
原创 当片上网络遇到缓存一致性
When a Network-on-Chip Meets Cache Coherency 当片上网络遇到缓存一致性 作者:Andy Nightingale Andy Nightingale是Arteris 产品管理和营销副总 ...
小英说半导体 2024-2-29 13:40
在含氧气体环境中利用VUV辐射的表面清洁机制
引言 半导体处理前的表面清洁度是在半导体工程领域中值得考虑的重要问题。化学溶剂被用于湿法化学清洗工艺中,以去除半导体表面上的有机污染物。然而,湿化 ...
小英说半导体 2024-2-23 14:31
臭氧水的应用
引言 化学机械抛光(CMP)是目前制备铜互连过程中常用的技术。铜化学机械抛光具有表面平面化,减少工艺步骤和热预算等优点。然而,它会在介电材料表面上引起 ...
小恶魔owo 2024-2-21 18:15
原创 设计DC-DC电路(简述)
设计一个DC-DC电路涉及到电子工程中的多个专业领域,包括电力电子、模拟电路和数字控制等。 1. 确定规格和参数 输入电压范围 :明确电路可接受的输入 ...
小英说半导体 2024-2-20 16:05
针对纳米片环栅晶体管中制造锗化硅(SiGe)和硅(Si)选择性蚀刻的研究
引言 栅极全能场效应晶体管(GAAFET)是一种很有前途的候选晶体管,可以用来提高FinFET性能。制造n型晶体管一般涉及到在内隔层沉积之前的高选择性SiGe:Si蚀 ...
小英说半导体 2024-2-17 10:13
新型臭氧发生器有效杀灭细菌
虽然紫外线和氯是对水进行消毒的常规方法,但臭氧在破坏微生物方面同样有效。与传统的消毒方法(如紫外线或氯气)相比,溶解在水中的臭氧有几个好处:例如,它 ...
国际文传 2024-2-4 16:49
芯和半导体在DesignCon2024大会上发布针对下一代电子系统的SI/PI/多物理场分析EDA解决方案
芯和半导体在刚刚结束的DesignCon 2024大会上正式发布了针对下一代电子系统的SI/PI/多物理场分析EDA解决方案,包括针对Chiplet先进封装及板级系统的信号完整性 ...
电子知识打边炉 2024-2-3 02:56
元器件第026篇 非固体铝电解电容器 等效串联电阻 阻抗 损耗角正切 品质因数
在较低频率(1kHz以下)的交流电条件下,铝电解电容器在电容之外,也表现电阻的特性。这部分电阻被称为等效串联电阻(ESR),电阻特性主要受电解 ...
电子知识打边炉 2024-1-29 23:15
原创 元器件第025篇 非固体铝电解电容器 漏电流
电容器是存储电荷的容器。实际的电容器是不理想的,总有电荷会从容器中漏掉,容器内剩余的电荷减少。对电介质施加直流电压,电介质会有很小的 ...
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