关于常用光刻胶型号也可以查看这篇文章:收藏!常用光刻胶型号资料大全,几乎包含所有芯片用光刻胶
来源:芯one
声明:本文由半导体材料与工艺转载,仅为了传达一种观点,并不代表对该观点的赞同或支持,若有侵权请联系小编,我们将及时处理,谢谢。
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现代科技推动下,芯片制造全流程堪称一场精密的工艺之旅,整个工艺过程不仅展示了材料科学的前沿突破,更是人类智慧与先进科技的完美融合。在全球数字化转型背景下,了解半导体制造过程对于从事电子制造领域或对此感兴趣的人来说极为重要。
半导体生产流程由晶圆制造,晶圆测试,芯片封装和封装后测试组成。而测试环节主要集中在CP(chip probing)、FT(Final Test)和WAT(Wafer Acceptance Test)三个环节。
封装形式集成电路发展初期,其封装主要是在半导体晶体管的金属圆形外壳基础上增加外引线数而形成的。但金属圆形外壳的引线数受结构的限制不可能无限增多,而且这种封装引线过多时也不利于集成电路的测试和安装,从...
集成电路封装在电子学金字塔中的位置既是金字塔的尖顶又是金字塔的基座。说它同时处在这两种位置都有很充分的根据。从电子元器件(如晶体管)的密度这个角度上来说,IC代表了电子学的尖端。但是IC又是一个起始点,是...
3D晶圆级封装,英文简称(WLP),包括CIS发射器、MEMS封装、标准器件封装。是指在不改变封装体尺寸的前提下,在同一个封装体内于垂直方向叠放两个以上芯片的封装技术,它起源于快闪存储器(NOR/NAND)及SDRAM的叠层封装...