在材料科学的研究领域,随着对物质微观结构探索的不断深入,对于样品制备技术的要求也在不断提高。超高分辨率电镜(HREM)技术的发展,已经将分辨率推进到了0.2纳米以下,这使得科学家们能够从原子级别上揭示物质的内在特性。

然而,这种高分辨率的实现对样品制备技术提出了更为严格的要求。传统的制样技术,例如离子减薄和电解双喷等方法,已经无法满足当前科研的需求。在这种背景下,聚焦离子束(FIB)技术因其技术的成熟和成本的降低(从数万元降至几千元),逐渐成为科研人员的新选择。

FIB技术在透射样品制备中的应用


1. 精确定位:首先在蓝宝石衬底上的GaN/AlGaN材料中,通过电极线精确定位切割点,并沉积Pt金属以形成约2um*10um的矩形框架。

2. 制备凹槽:在框架两侧制备凹槽,深度一般为3~5um,长度需超过15um,这一步骤与样品的具体结构密切相关。
3. 切割样品:切断样品的一个侧面和底面,以便后续将探针引入样品上方。

FIB切割金包银合金线

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4. 探针与样品的连接:通过控制程序切割探针针尖,形成平面与样品片顶部进行焊接,并取出样品片。

5. 样品焊接:将样品片焊接到样品托的金手指尖端,为后续的减薄和抛光做准备。

6. 样品减薄和抛光:通过调整束流和电压,对样品进行反复的减薄和抛光,直至样品厚度达到50~100nm。

7. 完成样品制备:经过上述步骤,透射样品的制备工作完成,随后进行观察分析。

国内FIB资源概况

国内众多科研机构装备了各种型号的FIB设备,为科研人员提供了便利的查询和使用渠道。这些资源的集中分布,不仅促进了材料科学研究的发展,也显示了FIB技术在国内的广泛应用和普及趋势。

总体来看,FIB技术凭借其高精度的制样能力,在材料科学领域扮演着越来越重要的角色。随着技术的持续进步和成本的进一步降低,预计FIB技术将在未来的科学研究中扮演更加关键的角色。FIB技术的应用不仅限于样品的制备,它还能够在纳米尺度上进行材料的切割、雕刻和沉积,为材料的微观分析提供了强大的工具。

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此外,FIB技术在半导体、生物医学、地质学等多个领域也有着广泛的应用前景。